| 摘要 | 第3-4页 |
| abstract | 第4页 |
| 第一章 绪论 | 第7-23页 |
| 1.1 选题背景 | 第7-8页 |
| 1.2 选题目的 | 第8-9页 |
| 1.3 镁合金的腐蚀与摩擦 | 第9-11页 |
| 1.3.1 镁合金的腐蚀 | 第9-10页 |
| 1.3.2 镁合金的摩擦 | 第10-11页 |
| 1.4 微弧氧化技术及国内外现状研究 | 第11-20页 |
| 1.4.1 微弧氧化技术的发展 | 第11-12页 |
| 1.4.2 微弧氧化技术原理 | 第12-15页 |
| 1.4.3 微弧氧化陶瓷膜的制备方法 | 第15-16页 |
| 1.4.4 国内外的研究现状 | 第16-19页 |
| 1.4.5 微弧氧化技术应用 | 第19-20页 |
| 1.5 本论文的研究内容 | 第20页 |
| 1.6 预期达到的目标 | 第20-21页 |
| 1.7 采用的技术路线 | 第21-23页 |
| 第二章 试验方法及膜层性能测试方法 | 第23-26页 |
| 2.1 试验材料 | 第23-24页 |
| 2.1.1 试验材料的成分 | 第23页 |
| 2.1.2 试样的制备过程 | 第23-24页 |
| 2.2 试验设备 | 第24-25页 |
| 2.2.1 微弧氧化设备 | 第24页 |
| 2.2.2 微弧氧化膜层性能测试 | 第24-25页 |
| 2.3 基础电解液的确定 | 第25页 |
| 2.4 试验方案设计 | 第25-26页 |
| 第三章 工艺参数对AZ91D镁合金微弧氧化膜层特性的影响 | 第26-40页 |
| 3.1 试验过程 | 第26-27页 |
| 3.2 结果与讨论 | 第27-39页 |
| 3.2.1 添加高锰酸钾对微弧氧化过程的影响 | 第27-28页 |
| 3.2.2 工艺参数对膜层的影响 | 第28-35页 |
| 3.2.3 工艺参数对膜层粗糙度的影响 | 第35-36页 |
| 3.2.4 工艺参数对膜层耐磨性的影响 | 第36-37页 |
| 3.2.5 工艺参数对膜层耐腐蚀性的影响 | 第37-39页 |
| 3.3 本章小结 | 第39-40页 |
| 第四章 KMnO_4含量对AZ91D镁合金微弧氧化25min膜层特性的影响 | 第40-55页 |
| 4.1 试验过程 | 第40-41页 |
| 4.2 结果与讨论 | 第41-54页 |
| 4.2.1 电解液的电导率 | 第41页 |
| 4.2.2 微弧氧化膜层厚度 | 第41-43页 |
| 4.2.3 微弧氧化膜层硬度 | 第43-44页 |
| 4.2.4 微弧氧化膜层形貌 | 第44-48页 |
| 4.2.5 微弧氧化膜层表面粗糙度 | 第48页 |
| 4.2.6 微弧氧化膜层相组成 | 第48-52页 |
| 4.2.7 微弧陶瓷层耐蚀性 | 第52-53页 |
| 4.2.8 微弧陶瓷层耐磨性 | 第53-54页 |
| 4.3 本章小结 | 第54-55页 |
| 结论 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 个人简介 | 第61页 |