| 摘要 | 第7-8页 |
| Abstract | 第8页 |
| 第一章 绪论 | 第9-17页 |
| 1.1 大气压等离子体概述 | 第9-12页 |
| 1.1.1 等离子体的分类 | 第9页 |
| 1.1.2 气体放电产生等离子体的方法 | 第9-12页 |
| 1.2 等离子体化学气相沉积技术 | 第12-13页 |
| 1.3 双频驱动的大气压等离子体射流 | 第13页 |
| 1.4 本文的研究背景和主要内容 | 第13-15页 |
| 1.4.1 本文的研究背景 | 第13-14页 |
| 1.4.2 本文的研究内容 | 第14-15页 |
| 参考文献 | 第15-17页 |
| 第二章 实验与测试 | 第17-23页 |
| 2.1 引言 | 第17页 |
| 2.2 实验装置 | 第17-18页 |
| 2.3 Antoine公式 | 第18页 |
| 2.4 等离子体的诊断技术 | 第18-20页 |
| 2.5 薄膜的检测技术 | 第20-22页 |
| 2.5.1 表面物理形态 | 第20页 |
| 2.5.2 薄膜中主要的化学键 | 第20页 |
| 2.5.3 薄膜的化学元素 | 第20-22页 |
| 参考文献 | 第22-23页 |
| 第三章 双频驱动大气压冷等离子体射流沉积薄膜的基础研究 | 第23-41页 |
| 3.1 引言 | 第23-24页 |
| 3.2 聚合物CHxOyNz薄膜的制备 | 第24-30页 |
| 3.2.1 沉积条件的优化 | 第24-27页 |
| 3.2.2 薄膜的表征 | 第27-30页 |
| 3.3 有机硅薄膜的制备 | 第30-34页 |
| 3.3.1 沉积条件的优化 | 第30-32页 |
| 3.3.2 薄膜的表征 | 第32-34页 |
| 3.4 本章小结 | 第34-36页 |
| 参考文献 | 第36-41页 |
| 第四章 总结与展望 | 第41-42页 |
| 4.1 本文主要结论 | 第41页 |
| 4.2 对未来工作的展望 | 第41-42页 |
| 附录：攻读硕士学位期间发表和完成的研究论文 | 第42-43页 |
| 致谢 | 第43页 |