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ZnMgO薄膜的光学偏振特性及其光致发光增强研究

摘要第5-6页
Abstract第6-7页
第一章 引言第10-12页
第二章 文献综述第12-32页
    2.1 ZnO的结构与基本性质第12-18页
        2.1.1 ZnO的晶体结构第12-13页
        2.1.2 ZnO的基本性质第13-14页
        2.1.3 ZnO的电学性质第14-16页
        2.1.4 ZnO的光学性质第16-18页
    2.2 ZnO的能带工程第18-21页
        2.2.1 ZnO的合金化第18-19页
        2.2.2 ZnMgO三元合金第19-21页
    2.3 非极性ZnO基薄膜偏振发光特性的研究第21-28页
        2.3.1 非极性ZnO基薄膜第21-22页
        2.3.2 非极性ZnO基薄膜的特性第22-24页
        2.3.3 偏振发光简介第24-27页
        2.3.4 偏振发光的应用及其在非极性ZnO基薄膜中的研究进展第27-28页
    2.4 氢处理增强ZnO基薄膜光致发光的研究第28-30页
        2.4.1 ZnO基薄膜光致发光增强的研究进展第28页
        2.4.2 氢处理简介及其研究进展第28-30页
    2.5 本论文研究内容第30-32页
第三章 实验原理、生长工艺及测试表征手段第32-38页
    3.1 实验设备第32-34页
        3.1.1 分子束外延第32-34页
        3.1.2 分子束外延的技术优势第34页
    3.2 生长工艺第34-36页
        3.2.1 实验原材料第34-35页
        3.2.2 衬底清洗和预处理第35页
        3.2.3 外延工艺第35-36页
    3.3 测试表征手段第36-38页
第四章 非极性ZnMgO薄膜偏振发光特性的研究第38-52页
    4.1 非极性a面Zn_(1-x)Mg_xO薄膜的外延生长第38-40页
    4.2 非极性a面Zn_(1-x)MgO薄膜的基本性能表征第40-43页
        4.2.1 非极性a面Zn_(1-x)MgO薄膜的Mg含量第40页
        4.2.2 非极性a面Zn_(1-x)Mg_xO薄膜的晶体质量第40-42页
        4.2.3 非极性a面Zn_(1-x)MgO薄膜的表面形貌第42-43页
    4.3 非极性a面Zn_(1-x)Mg_xO薄膜光学偏振特性的研究第43-50页
        4.3.1 偏振拉曼光谱第43-44页
        4.3.2 非极性a面Zn_(1-x)Mg_xO薄膜的应力分析第44-46页
        4.3.3 偏振光致发光谱及测量步骤第46-47页
        4.3.4 非极性a面Zn_(1-x)Mg_xO薄膜的光学偏振特性分析第47-50页
    4.4 本章小结第50-52页
第五章 氢等离子体增强ZnMgO薄膜光致发光的研究第52-62页
    5.1 ZnMgO、ZnO、ZnO:Ga薄膜的外延生长第52-53页
    5.2 Zn_(0.88)Mg_(0.12)O、ZnO、ZnO:Ga薄膜的基本性能表征第53-56页
        5.2.1 Zn_(0.88)Mg_(0.12)O、ZnO: Ga薄膜中的Mg、Ga含量第53-54页
        5.2.2 Zn_(0.88)Mg_(0.12)O、ZnO、ZnO: Ga薄膜的晶体质量第54-56页
        5.2.3 Zn_(0.88)Mg_(0.12)O、ZnO、ZnO: Ga薄膜的表面形貌第56页
    5.3 氢处理增强Zn_(0.88)Mg_(0.12)O、ZnO、ZnO: Ga薄膜光致发光第56-61页
        5.3.1 氢处理增强Zn_(0.88)Mg_(0.12)O薄膜光致发光第56-58页
        5.3.2 氢处理增强ZnO、ZnO: Ga薄膜光致发光第58-59页
        5.3.3 Zn_(0.88)Mg_(0.12)O、ZnO、ZnO: Ga薄膜光致发光增强的差异分析第59-60页
        5.3.4 退火处理Zn_(0.88)Mg_(0.12)O、ZnO、ZnO: Ga薄膜第60-61页
    5.4 本章小结第61-62页
第六章 结论与展望第62-64页
参考文献第64-72页
致谢第72-74页
个人简历第74-76页
攻读学位期间发表的学术论文与取得的其他研究成果第76页

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