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钛酸锶衬底上外延单层铁硒薄膜的高温超导特性研究

摘要第3-4页
Abstract第4-5页
第1章 引言第10-39页
    1.1 铁基超导体第10-14页
    1.2 铁硫族超导体第14-24页
        1.2.1 FeSe 的晶体结构和元素掺杂第14-17页
        1.2.2 FeSe 的电子态结构第17-19页
        1.2.3 FeTe 的超导电性第19-20页
        1.2.4 FeSe 的压力和应力效应第20-24页
    1.3 超导界面增强效应第24-33页
        1.3.1 硫族的半导体/半导体界面第24-25页
        1.3.2 钙钛矿的绝缘体/绝缘体界面第25-28页
        1.3.3 衬底应力效应第28-29页
        1.3.4 铜氧化合物界面超导第29-31页
        1.3.5 超导相位涨落和刚度第31-32页
        1.3.6 界面电﹣声耦合增强效应第32-33页
    1.4 当前实验进展第33-39页
        1.4.1 石墨烯衬底上 FeSe 薄膜的超导特性第33-34页
        1.4.2 钛酸锶衬底上 FeSe 薄膜的超导特性第34-39页
第2章 实验仪器和原理第39-54页
    2.1 超高真空技术第39-41页
    2.2 分子束外延生长技术第41-43页
    2.3 扫描隧道显微镜第43-46页
        2.3.1 STM 的原理第43-45页
        2.3.2 STM 的结构第45页
        2.3.3 STM 的特点第45-46页
    2.4 角分辨光电子能谱第46页
    2.5 综合物性测量系统第46-50页
    2.6 超导互感线圈第50-54页
第3章 单层 FeSe 薄膜和 FeTe 保护层的 MBE 生长第54-72页
    3.1 研究背景第54-56页
    3.2 实验方法第56-59页
        3.2.1 SrTiO_3的晶体结构第56-57页
        3.2.2 导电型 SrTiO_3衬底的处理第57页
        3.2.3 绝缘型 SrTiO_3衬底的处理第57-58页
        3.2.4 FeSe 和 FeTe 薄膜的生长条件第58-59页
    3.3 FeSe 薄膜的 MBE 生长第59-62页
    3.4 FeTe 保护层的 MBE 生长第62-64页
    3.5 异质结样品的界面结构第64-65页
    3.6 样品在大气环境中的氧化问题第65-68页
    3.7 其他氧化物衬底上 FeSe 薄膜的生长第68-71页
    3.8 本章小结第71-72页
第4章 单层 FeSe 薄膜高温超导特性的实验观测第72-91页
    4.1 单层 FeSe 薄膜的超导能隙第72-75页
    4.2 单层 FeSe 薄膜的能带结构第75-78页
    4.3 单层 FeSe 薄膜超导的电磁输运第78-83页
    4.4 单层 FeSe 薄膜的二维超导性第83-86页
    4.5 宏观电磁输运和微观 STM/ARPES 比较第86-90页
    4.6 本章小结第90-91页
第5章 FeSe/SrTiO_3界面的电子掺杂效应第91-110页
    5.1 研究背景第91-93页
    5.2 退火过程中单层 FeSe 薄膜的表面形貌和超导能隙变化第93-95页
    5.3 退火过程中单层 FeSe 薄膜的电子能带变化第95-100页
    5.4 退火过程中单层 FeSe 薄膜的输运结果变化第100-103页
    5.5 单层 FeSe 薄膜的场效应调控第103-106页
    5.6 FeSe 界面的电子掺杂效应和超导增强机制第106-109页
    5.7 本章小结第109-110页
第6章 FeSe 薄膜的磁输运性质第110-126页
    6.1 研究背景第110-112页
    6.2 上临界磁场和各向异性第112-117页
    6.3 热激发的磁通蠕动第117-119页
    6.4 线性磁阻第119-125页
    6.5 本章小结第125-126页
第7章 结论第126-128页
参考文献第128-147页
致谢第147-149页
个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果第149-150页

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