摘要 | 第3-5页 |
abstract | 第5-6页 |
第1章 绪论 | 第14-26页 |
1.1 课题研究背景 | 第14-15页 |
1.2 紫外石英光学性能研究 | 第15-19页 |
1.2.1 吸收测量方法及进展 | 第15-18页 |
1.2.2 石英损伤研究及进展 | 第18-19页 |
1.3 紫外石英缺陷研究 | 第19-24页 |
1.3.1 缺陷检测技术及国内外现状 | 第20-23页 |
1.3.2 缺陷对光学性质影响及国内外现状 | 第23-24页 |
1.4 本论文主要研究内容 | 第24-26页 |
第2章 荧光缺陷测量 | 第26-44页 |
2.1 引言 | 第26页 |
2.2 荧光信号收集光路的硬件设计 | 第26-28页 |
2.2.1 荧光信号收集光路设计原理 | 第26-28页 |
2.2.2 193 nm散射光干扰的抑制 | 第28页 |
2.3 荧光信号的数据处理 | 第28-35页 |
2.3.1 高阶衍射干扰的消除 | 第28-32页 |
2.3.2 寿命谱分离荧光峰 | 第32-35页 |
2.4 SiO_2材料荧光信号测量 | 第35-43页 |
2.4.1 SiO_2材料荧光峰种类分析 | 第36-39页 |
2.4.2 SiO_2材料荧光峰激发特性分析 | 第39-43页 |
2.5 本章小结 | 第43-44页 |
第3章 吸收特性测量 | 第44-66页 |
3.1 引言 | 第44页 |
3.2 紫外吸收测量和分析 | 第44-45页 |
3.2.1 分光光度法 | 第44页 |
3.2.2 紫外透过率谱分析 | 第44-45页 |
3.3 193 nm吸收特性测量 | 第45-53页 |
3.3.1 激光量热法 | 第45-47页 |
3.3.2 紫外熔融石英 193nm吸收特性 | 第47-50页 |
3.3.3 熔融石英 193nm吸收与缺陷的关联 | 第50-53页 |
3.4 SiOH缺陷含量测量和分析 | 第53-63页 |
3.4.1 Beer-Lambert定律 | 第53-54页 |
3.4.2 傅里叶红外光谱法 | 第54-56页 |
3.4.3 SiOH含量的测量与优化 | 第56-60页 |
3.4.4 SiOH对熔融石英紫外光学性质的影响 | 第60-63页 |
3.5 本章小结 | 第63-66页 |
第4章 损伤、热处理对紫外石英光学性质的影响 | 第66-84页 |
4.1 引言 | 第66页 |
4.2 熔融石英损伤与缺陷的关联 | 第66-69页 |
4.2.1 损伤点的产生 | 第66-67页 |
4.2.2 损伤点的荧光变化 | 第67-69页 |
4.3 退火炉热处理实验 | 第69-76页 |
4.3.1 热处理前后透过谱、吸收变化 | 第69-72页 |
4.3.2 热处理前后荧光变化 | 第72-75页 |
4.3.3 热处理前后材料内缺陷变化讨论 | 第75-76页 |
4.4 CO_2激光加热 | 第76-82页 |
4.4.1 CO_2激光加热温度估算 | 第77-78页 |
4.4.2 CO_2激光加热前后样品荧光强度分布 | 第78-80页 |
4.4.3 不同照射参数下CO_2激光加热对材料缺陷的影响 | 第80-82页 |
4.5 本章小结 | 第82-84页 |
第5章 量子化学计算熔融石英内缺陷的物理化学特性 | 第84-102页 |
5.1 引言 | 第84页 |
5.2 计算方法与模型构建 | 第84-88页 |
5.2.1 计算方法 | 第84-86页 |
5.2.2 基于熔融石英结构特征的缺陷结构建模 | 第86-88页 |
5.3 缺陷的吸收光谱计算 | 第88-92页 |
5.3.1 四种常见电中性缺陷的吸收光谱计算 | 第89-90页 |
5.3.2 电中性缺陷的吸收光谱预测 | 第90-92页 |
5.4 缺陷的激发光谱计算 | 第92-96页 |
5.4.1 四种常见缺陷的激发光谱计算 | 第92-93页 |
5.4.2 缺陷的激发光谱预测 | 第93-96页 |
5.5 氢相关缺陷生成与退火 | 第96-101页 |
5.5.1 氢气与常见 193nm吸收缺陷的反应 | 第96-98页 |
5.5.2 氢相关缺陷在 193nm照射下稳定性 | 第98-101页 |
5.6 本章小结 | 第101-102页 |
第6章 总结与展望 | 第102-106页 |
6.1 本论文主要工作 | 第102-103页 |
6.2 本论文创新点 | 第103页 |
6.3 对后续工作的建议 | 第103-106页 |
参考文献 | 第106-122页 |
致谢 | 第122-124页 |
作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 | 第124-125页 |