| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 论文中主要符号列表 | 第17-19页 |
| 第1章 绪论 | 第19-35页 |
| 1.1 课题来源及意义 | 第19-21页 |
| 1.1.1 课题来源 | 第19页 |
| 1.1.2 课题研究背景和意义 | 第19-21页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第21-31页 |
| 1.2.1 超光滑平面抛光技术 | 第21-31页 |
| 1.3 论文提出的工艺构想 | 第31-32页 |
| 1.3.1 增大加工区域磁场面积 | 第31-32页 |
| 1.3.2 改善材料去除量分布均匀性 | 第32页 |
| 1.4 论文的研究思路及主要研究内容 | 第32-34页 |
| 1.4.1 研究思路 | 第32-33页 |
| 1.4.2 主要研究内容 | 第33-34页 |
| 1.5 小结 | 第34-35页 |
| 第2章 大抛光模磁流变平面抛光方法及加工性能 | 第35-51页 |
| 2.1 引言 | 第35页 |
| 2.2 磁流变平面抛光加工基本原理 | 第35-36页 |
| 2.3 磁流变平面抛光试验装置设计 | 第36-38页 |
| 2.3.1 试验装置总体设计要求 | 第36页 |
| 2.3.2 试验装置设计 | 第36-38页 |
| 2.4 直线气隙永久磁轭 | 第38-39页 |
| 2.5 永久磁轭磁场有限元分析 | 第39-40页 |
| 2.6 永久磁轭的磁场分布 | 第40-42页 |
| 2.7 永久磁轭励磁的磁流变平面抛光加工特性试验研究 | 第42-47页 |
| 2.7.1 抛光痕 | 第43-45页 |
| 2.7.2 抛光面积 | 第45-47页 |
| 2.8 抛光性能分析 | 第47-50页 |
| 2.8.1 体积去除率 | 第47-48页 |
| 2.8.2 表面质量 | 第48-49页 |
| 2.8.3 平整度 | 第49-50页 |
| 2.9 小结 | 第50-51页 |
| 第3章 磁流变平面抛光励磁装置优化及抛光效果 | 第51-66页 |
| 3.1 引言 | 第51页 |
| 3.2 永久磁轭的结构尺寸 | 第51页 |
| 3.3 永久磁轭优化 | 第51-57页 |
| 3.3.1 仿真分析 | 第52-53页 |
| 3.3.2 尺寸优化 | 第53-57页 |
| 3.4 优化前后的磁场分布 | 第57-58页 |
| 3.5 优化后磁流变抛光模的改善状况 | 第58-59页 |
| 3.6 优化后抛光性能 | 第59-62页 |
| 3.6.1 抛光痕面积及截面轮廓 | 第60-61页 |
| 3.6.2 体积去除率 | 第61页 |
| 3.6.3 表面粗糙度 | 第61-62页 |
| 3.7 永久磁轭类高斯型磁场仿真分析 | 第62-65页 |
| 3.7.1 两侧倒圆角对磁场分布的影响 | 第63-64页 |
| 3.7.2 两侧倒斜角对磁场分布的影响 | 第64-65页 |
| 3.8 小结 | 第65-66页 |
| 第4章 直线摆动磁流变平面抛光方法及加工性能 | 第66-81页 |
| 4.1 引言 | 第66页 |
| 4.2 直线摆动磁流变平面抛光加工原理 | 第66页 |
| 4.3 抛光运动轨迹分析 | 第66-68页 |
| 4.4 材料去除量数学模型及计算 | 第68-71页 |
| 4.4.1 材料去除量数学模型 | 第68页 |
| 4.4.2 材料去除量计算过程 | 第68-71页 |
| 4.5 直线摆动对磁流变抛光性能影响仿真分析 | 第71-74页 |
| 4.5.1 摆动轨迹的影响 | 第71-72页 |
| 4.5.2 摆动行程的影响 | 第72-73页 |
| 4.5.3 摆动速率的影响 | 第73-74页 |
| 4.6 直线摆动对磁流变抛光性能影响试验研究 | 第74-80页 |
| 4.6.1 直线摆动对平整度的影响 | 第75-77页 |
| 4.6.2 直线摆动对材料去除率的影响 | 第77-79页 |
| 4.6.3 直线摆动对表面质量的影响 | 第79-80页 |
| 4.7 小结 | 第80-81页 |
| 第5章 大抛光模磁流变平面抛光机理分析 | 第81-100页 |
| 5.1 引言 | 第81页 |
| 5.2 抛光力测试及理论分析 | 第81-90页 |
| 5.2.1 抛光力原始信号分析 | 第82-84页 |
| 5.2.2 抛光力数学模型 | 第84-87页 |
| 5.2.3 抛光力理论计算及分析 | 第87-90页 |
| 5.3 工艺试验及抛光机理分析 | 第90-98页 |
| 5.3.1 表面粗糙度及其机理分析 | 第91-94页 |
| 5.3.2 材料去除率及其机理分析 | 第94-96页 |
| 5.3.3 抛光对平整度的影响 | 第96-97页 |
| 5.3.4 抛光后亚表面损伤变化 | 第97-98页 |
| 5.4 小结 | 第98-100页 |
| 第6章 磁流变平面抛光机床研制及应用研究 | 第100-119页 |
| 6.1 引言 | 第100页 |
| 6.2 磁流变平面抛光机床设计与开发 | 第100-104页 |
| 6.2.1 机床总体设计方案与技术参数 | 第100-102页 |
| 6.2.2 关键部件及系统的研制 | 第102-104页 |
| 6.3 蓝宝石的磁流变抛光应用研究 | 第104-113页 |
| 6.3.1 蓝宝石材料性能分析 | 第105页 |
| 6.3.2 蓝宝石磁流变化学机械抛光 | 第105-106页 |
| 6.3.3 蓝宝石抛光中的化学作用分析 | 第106-107页 |
| 6.3.4 蓝宝石磁流变化学抛光液沉淀性分析 | 第107-108页 |
| 6.3.5 蓝宝石磁流变化学机械抛光试验及分析 | 第108-113页 |
| 6.4 各向同性石墨的磁流变抛光应用研究 | 第113-118页 |
| 6.4.1 各向同性石墨材料性能分析 | 第114页 |
| 6.4.2 各向同性石墨磁流变抛光试验及分析 | 第114-118页 |
| 6.5 小结 | 第118-119页 |
| 总结与展望 | 第119-122页 |
| 参考文献 | 第122-130页 |
| 致谢 | 第130-131页 |
| 附录A 攻读博士学位期间所发表的学术论文 | 第131-132页 |
| 附录B 攻读博士学位期间所申请的专利 | 第132-133页 |
| 附录C 攻读博士学位期间参与项目 | 第133-134页 |
| 附录D 攻读博士学位期间所获奖励 | 第134-135页 |
| 附录E 攻读博士学位期间所获科研成果 | 第135-136页 |
| 附录F 攻读博士学位期间所参与制订的企业标准 | 第136页 |