摘要 | 第6-8页 |
ABSTRACT | 第8-10页 |
第1章 绪论 | 第11-20页 |
1.1 课题研究背景及意义 | 第11-12页 |
1.2 气-固非均相光催化净化原理及影响因素 | 第12-13页 |
1.3 环境光催化材料研究进展 | 第13-16页 |
1.3.1 光催化剂研究热点 | 第13-15页 |
1.3.2 光催化剂改性 | 第15页 |
1.3.3 等离子光催化剂 | 第15-16页 |
1.4 等离子非贵金属铋单质光催化剂 | 第16-18页 |
1.4.1 铋单质等离子光催化剂 | 第17页 |
1.4.2 铋单质-半导体复合光催化剂 | 第17-18页 |
1.5 选题依据 | 第18-19页 |
1.6 主要内容 | 第19-20页 |
第2章 实验部分 | 第20-25页 |
2.1 实验试剂和仪器 | 第20-21页 |
2.1.1 实验试剂 | 第20页 |
2.1.2 实验仪器 | 第20-21页 |
2.2 光催化材料表征测试 | 第21页 |
2.3 光催化活性评价 | 第21-22页 |
2.4 理论计算设置 | 第22-23页 |
2.4.1 密度泛函理论(DFT) | 第22-23页 |
2.4.2 时域有限差分法(FDTD) | 第23页 |
2.5 原位红外测试设置 | 第23-25页 |
第3章 Bi纳米球/氧化石墨烯复合物的构建及电荷转移增强的光催化净化NO_x | 第25-37页 |
3.1 .引言 | 第25-26页 |
3.2 催化剂制备 | 第26-27页 |
3.3 结果与讨论 | 第27-36页 |
3.3.1 形貌结构分析 | 第27-28页 |
3.3.2 相结构及化学形态分析 | 第28-29页 |
3.3.3 比表面积与孔结构分析 | 第29-30页 |
3.3.4 光催化性能及稳定性评价 | 第30-31页 |
3.3.5 铋单质金属等离子性能分析 | 第31页 |
3.3.6 氧化石墨烯表面电子转移特性分析 | 第31-33页 |
3.3.7 光催化NO去除机理分析 | 第33-36页 |
3.4 本章小结 | 第36-37页 |
第4章 金属Bi单质激活无定形氧化铋可见光催化净化NO_x及机理研究 | 第37-50页 |
4.1 引言 | 第37页 |
4.2 催化剂制备 | 第37-38页 |
4.3 结果与讨论 | 第38-49页 |
4.3.1 相结构与化学形态分析 | 第38-40页 |
4.3.2 形貌结构与生长机理分析 | 第40-41页 |
4.3.3 比表面积与孔结构分析 | 第41-42页 |
4.3.4 光学性质与能带结构分析 | 第42-45页 |
4.3.5 光催化性能以及光催化稳定性评价 | 第45页 |
4.3.6 催化剂化学稳定性评价 | 第45-46页 |
4.3.7 光催化去除NO机理分析 | 第46-49页 |
4.4 本章小结 | 第49-50页 |
第5章 设计Bi@Bi_2O_2SiO_3光催化剂去除NO_x机理研究和抑制中间毒副产物生成 | 第50-66页 |
5.1 引言 | 第50页 |
5.2 催化剂制备 | 第50-51页 |
5.3 结果与讨论 | 第51-65页 |
5.3.1 电子结构预测 | 第51-52页 |
5.3.2 相结构及化学形态分析 | 第52-54页 |
5.3.3 形貌结构分析 | 第54-55页 |
5.3.4 光学性能和荧光分析 | 第55-56页 |
5.3.5 能带结构分析 | 第56-57页 |
5.3.6 氧气活化及自由基生成分析 | 第57-59页 |
5.3.7 光催化活性及稳定性分析 | 第59-61页 |
5.3.8 原位红外分析 | 第61-62页 |
5.3.9 NO光催化氧化过程与中间毒副产物抑制分析 | 第62-65页 |
5.4 本章小结 | 第65-66页 |
第6章 结论与展望 | 第66-68页 |
6.1 结论 | 第66-67页 |
6.2 展望 | 第67-68页 |
参考文献 | 第68-73页 |
致谢 | 第73-74页 |
攻读硕士学位期间科研成果、参加课题及获奖情况 | 第74-76页 |