| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第9-23页 |
| 1.1 课题来源及研究的目的和意义 | 第9-10页 |
| 1.2 国内外研究现状及分析 | 第10-21页 |
| 1.2.1 钒的氧化物 | 第10-11页 |
| 1.2.2 降低相变温度的方法 | 第11-13页 |
| 1.2.3 相变前后透光率的变化 | 第13页 |
| 1.2.4 退火对相变的影响及相变温度滞后 | 第13-14页 |
| 1.2.5 相变前后晶体结构的变化 | 第14-15页 |
| 1.2.6 关于 M1 和 M2 | 第15-19页 |
| 1.2.7 相变原因 | 第19-20页 |
| 1.2.8 应用 | 第20-21页 |
| 1.3 主要研究内容 | 第21-23页 |
| 1.3.1 VO_2纳米线的制备（CVD 和水热法） | 第21-22页 |
| 1.3.2 VO_2纳米线 M（M1 和 M2）相的研究 | 第22-23页 |
| 第2章 实验方法及表征测试概述 | 第23-33页 |
| 2.1 气相沉积（CVD） | 第23-29页 |
| 2.1.1 CVD 简介 | 第23-24页 |
| 2.1.2 CVD 生长纳米线原理 | 第24-28页 |
| 2.1.3 有毒尾气（V2O_5）处理 | 第28-29页 |
| 2.2 水热合成（Hydrothermal method） | 第29-30页 |
| 2.3 表征测试方法 | 第30-33页 |
| 2.3.1 扫描电子显微镜（Scanning Electron Microscopy） | 第30-31页 |
| 2.3.2 金相显微镜（Metallurgical Microscope） | 第31页 |
| 2.3.3 透射电子显微镜（Transmission Electron Microscopy） | 第31页 |
| 2.3.4 相变温度分析（Differential Scanning Calorimetry） | 第31页 |
| 2.3.5 晶体结构分析（X-Ray Diffraction） | 第31-32页 |
| 2.3.6 激光显微拉曼光谱分析（Laser Micro-Raman Spectrometer） | 第32-33页 |
| 第3章 CVD 方法制备 VO_2纳米线及结构形貌分析 | 第33-46页 |
| 3.1 实验方案（CVD） | 第33-35页 |
| 3.1.1 二氧化钒作为反应源 | 第33-34页 |
| 3.1.2 五氧化二钒作为反应源 | 第34-35页 |
| 3.2 CVD 方法生长的纳米线的形貌和结构 | 第35-45页 |
| 3.2.1 形貌分析 | 第35-37页 |
| 3.2.2 金相显微镜下的 M-R 畴结构 | 第37-41页 |
| 3.2.3 纳米线的结构分析 | 第41-43页 |
| 3.2.4 TEM 测试分析 | 第43-45页 |
| 3.3 本章小结 | 第45-46页 |
| 第4章 水热法制备低价元素（Al、Cr）掺杂的 VO_2纳米线及形貌结构分析 | 第46-57页 |
| 4.1 实验方案（水热合成法） | 第46-47页 |
| 4.2 掺杂 Al 的 VO_2纳米线的形貌和结构 | 第47-52页 |
| 4.2.1 形貌分析 | 第47-49页 |
| 4.2.2 纳米线的结构分析 | 第49-51页 |
| 4.2.3 TEM 测试分析 | 第51-52页 |
| 4.3 掺杂 Cr 的 VO_2纳米线的形貌和结构 | 第52-56页 |
| 4.3.1 形貌分析 | 第52-53页 |
| 4.3.2 纳米线的结构分析 | 第53-55页 |
| 4.3.3 TEM 测试分析 | 第55-56页 |
| 4.4 本章小结 | 第56-57页 |
| 第5章 M 相的研究分析 | 第57-64页 |
| 5.1 CVD 方法生长 VO_2纳米线的 M 相分析 | 第57-59页 |
| 5.1.1 纳米线的相变温度 | 第57页 |
| 5.1.2 纳米线的 M 相研究 | 第57-59页 |
| 5.2 水热法掺杂 Al 的 VO_2纳米线的 M 相分析 | 第59-61页 |
| 5.2.1 纳米线的相变温度 | 第59页 |
| 5.2.2 纳米线的 M 相研究 | 第59-61页 |
| 5.3 水热法掺杂 Cr 的 VO_2纳米线的 M 相分析 | 第61-63页 |
| 5.3.1 纳米线的相变温度 | 第61页 |
| 5.3.2 纳米线的 M 相研究 | 第61-63页 |
| 5.4 本章小结 | 第63-64页 |
| 结论 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-71页 |
| 致谢 | 第71页 |
