| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第10-24页 |
| 1.1 SO_2和 NO_x的来源、性质与危害 | 第10-12页 |
| 1.2 脱硫脱硝技术及其应用 | 第12-15页 |
| 1.2.1 脱硫控制技术及其应用 | 第12-14页 |
| 1.2.2 脱硝控制技术及其应用 | 第14-15页 |
| 1.2.3 同时脱硫脱硝控制技术及其应用 | 第15页 |
| 1.3 铜基催化剂在脱硫脱硝过程中的应用 | 第15-16页 |
| 1.3.1 铜基催化剂在脱硫过程中的应用 | 第15-16页 |
| 1.3.2 铜基催化剂在脱硝过程中的应用 | 第16页 |
| 1.4 脱硫脱销过程的机理研究 | 第16-20页 |
| 1.4.1 SO_2的脱除机理研究 | 第17-19页 |
| 1.4.2 NO_x的脱除机理研究 | 第19-20页 |
| 1.5 本课题研究的目的及意义 | 第20-21页 |
| 1.6 参考文献 | 第21-24页 |
| 第二章 理论基础 | 第24-34页 |
| 2.1 密度泛函理论 | 第24-26页 |
| 2.2 第一性原理方法 | 第26页 |
| 2.3 VASP 软件包 | 第26-27页 |
| 2.3.1 VASP 的几个重要文件 | 第26-27页 |
| 2.3.2 过渡态的搜索方法 | 第27页 |
| 2.4 计算模型 | 第27-28页 |
| 2.4.1 簇模型 | 第27-28页 |
| 2.4.2 平板模型 | 第28页 |
| 2.4.3 模型的构建 | 第28页 |
| 2.5 计算结果及应用 | 第28-31页 |
| 2.5.1 晶格常数 | 第28-29页 |
| 2.5.2 频率 | 第29页 |
| 2.5.3 截断能 | 第29页 |
| 2.5.4 表征物理量以及涉及的公式 | 第29-31页 |
| 2.6 参考文献 | 第31-34页 |
| 第三章 SO_2在 Cu2O(111)表面上催化分解的 DFT 研究 | 第34-56页 |
| 3.1 引言 | 第34-35页 |
| 3.2 计算方法和模型 | 第35-36页 |
| 3.2.1 计算方法 | 第35页 |
| 3.2.2 表面模型 | 第35-36页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第36-48页 |
| 3.3.1 完美表面上 SO_2的吸附和分解 | 第36-39页 |
| 3.3.2 氧空缺表面上 SO_2的吸附和分解 | 第39-41页 |
| 3.3.3 H 预吸附表面上 SO_2的吸附和分解 | 第41-45页 |
| 3.3.4 Cu 簇沉积表面上 SO_2的吸附和分解 | 第45-48页 |
| 3.4 路径分析 | 第48-49页 |
| 3.5 本章小结 | 第49-50页 |
| 3.6 参考文献 | 第50-56页 |
| 第四章 NO_x和 SO_2在 Cu2O(111)表面上共同脱除的 DFT 研究 | 第56-70页 |
| 4.1 引言 | 第56-57页 |
| 4.2 计算方法和模型 | 第57页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第57-64页 |
| 4.3.1 SO_2和 NO_x在 Cu2O(111)上相互作用的反应网络 | 第58页 |
| 4.3.2 吸附分子及基团的结构与能量 | 第58-60页 |
| 4.3.3 SO_2和 NO_x 在 Cu2O(111)相互作用的反应热和能垒 | 第60-64页 |
| 4.4 本章小结 | 第64-66页 |
| 4.5 参考文献 | 第66-70页 |
| 第五章 硫化的 Cu2O(111)表面再生过程的 DFT 研究 | 第70-80页 |
| 5.1 引言 | 第70-71页 |
| 5.2 计算方法和模型 | 第71页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第71-75页 |
| 5.3.1 O_2作为再生气氛 | 第71-72页 |
| 5.3.2 H2作为再生气氛 | 第72-75页 |
| 5.4 本章小结 | 第75-76页 |
| 5.5 参考文献 | 第76-80页 |
| 第六章 结论与后期工作建议 | 第80-82页 |
| 6.1 全文总结 | 第80-81页 |
| 6.2 工作建议 | 第81-82页 |
| 致谢 | 第82-84页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文目录 | 第84页 |
