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水体中重金属离子吸附材料的制备及性能研究

摘要第2-4页
Abstract第4-5页
第一章 前言第9-25页
    1.1 水污染简介第9-11页
        1.1.1 重金属污染及危害第9-10页
        1.1.2 重金属污染的处理方法第10-11页
    1.2 壳聚糖及其衍生物类吸附材料第11-12页
    1.3 磁性壳聚糖复合材料第12-13页
        1.3.1 磁性纳米材料第12页
        1.3.2 磁性纳米复合材料第12-13页
    1.4 离子印迹聚合物第13-17页
        1.4.1 离子印迹技术第13页
        1.4.2 制备IIPs的基本原则第13-14页
        1.4.3 印迹体系的组成第14-15页
        1.4.4 离子印迹的几种基本聚合方式第15页
        1.4.5 砷离子印迹聚合物的研究进展第15-17页
    1.5 选题目的和意义第17页
    1.6 本课题研究的主要内容第17-18页
    1.7 参考文献第18-25页
第二章 巯基/季铵盐功能化磁性壳聚糖复合材料的制备及对多种金属离子的吸附研究第25-46页
    2.1 引言第25-26页
    2.2 实验部分第26-27页
        2.2.1 原料与试剂第26页
        2.2.2 仪器和设备第26页
        2.2.3 合成壳聚糖季铵盐衍生物(HTCC)第26页
        2.2.4 制备巯基功能化的季铵盐壳聚糖衍生物(Cyshtcc)第26页
        2.2.5 制备巯基/季铵盐功能化磁性壳聚糖复合材料(Cyshtcc-Fe_3O_4)第26-27页
        2.2.6 批吸附实验第27页
        2.2.7 解吸和再生实验第27页
    2.3 结果与讨论第27-41页
        2.3.1 Cyshtcc-Fe_3O_4的表征第27-30页
        2.3.2 Cyshtcc-Fe_3O_4的吸附性能第30-36页
        2.3.3 吸附等温线的评估第36-38页
        2.3.4 吸附动力学第38-40页
        2.3.5 XPS分析第40-41页
    2.4 结论第41-42页
    2.5 参考文献第42-46页
第三章 反相悬浮交联法制备砷(Ⅲ)离子印迹磁性四氧化三铁/季铵盐壳聚糖复合材料及其除砷(Ⅲ)性能研究第46-64页
    3.1 引言第46页
    3.2 实验部分第46-49页
        3.2.1 原料与试剂第46-47页
        3.2.2 仪器设备第47页
        3.2.3 合成壳聚糖季铵盐衍生物(HTCC)第47页
        3.2.4 制备四氧化三铁纳米粒第47页
        3.2.5 制备印迹复合材料(As(Ⅲ)-IMHNPs)第47-48页
        3.2.6 批吸附实验第48页
        3.2.7 选择性吸附实验第48-49页
        3.2.8 解吸和再生实验第49页
    3.3 结果与讨论第49-59页
        3.3.1 As(Ⅲ)-IMHNPs和NIMHNPs的表征第49-52页
        3.3.2 吸附性能研究第52-55页
        3.3.3 选择吸附性能第55-56页
        3.3.4 解吸和再生性能第56-57页
        3.3.5 吸附等温线的评估第57-58页
        3.3.6 吸附动力学第58-59页
    3.4 结论第59-60页
    3.5 参考文献第60-64页
第四章 乳液聚合法制备高选择性的砷(Ⅲ)离子印迹聚合物及其除砷性能研究第64-80页
    4.1 引言第64页
    4.2 实验部分第64-66页
        4.2.1 原料与试剂第64页
        4.2.2 仪器设备第64-65页
        4.2.3 乳液聚合法制备砷离子印迹聚合物第65页
        4.2.4 批吸附实验第65页
        4.2.5 选择性吸附实验第65-66页
    4.3 结果与讨论第66-75页
        4.3.1 As(Ⅲ)-IIP和NIP的表征第66-69页
        4.3.2 吸附性能的研究第69-71页
        4.3.3 选择性吸附性能第71-73页
        4.3.4 吸附等温线第73-74页
        3.3.6 吸附动力学第74-75页
    4.4 结论第75-76页
    4.5 参考文献第76-80页
第五章 结论第80-82页
致谢第82-83页
攻读学位论文期间发表或即将发表的论文第83页
发明专利第83-84页

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