摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第一章 绪论 | 第12-26页 |
1.1 研究背景 | 第12-13页 |
1.2 铝合金的研究综述 | 第13-16页 |
1.2.1 铝基体综述 | 第13-14页 |
1.2.2 铝合金的制备方法 | 第14-15页 |
1.2.3 铝合金的应用现状及发展趋势 | 第15-16页 |
1.3 7055铝合金的研究综述 | 第16-19页 |
1.3.1 7055铝合金中主要元素的作用 | 第16-18页 |
1.3.2 7055铝合金的时效过程 | 第18页 |
1.3.3 7055铝合金的组织和性能 | 第18-19页 |
1.3.4 7055铝合金的应用现状 | 第19页 |
1.4 磁场在材料科学中的研究 | 第19-21页 |
1.4.1 脉冲强磁场在材料科学中的研究 | 第19-20页 |
1.4.2 静磁场在材料科学中的研究 | 第20-21页 |
1.5 磁致塑性理论 | 第21-24页 |
1.5.1 磁致塑性理论的发展 | 第21页 |
1.5.2 位错动力学理论 | 第21-22页 |
1.5.3 磁场下电子自旋理论 | 第22-24页 |
1.6 本文研究内容及意义 | 第24-26页 |
第二章 实验材料与研究方法 | 第26-32页 |
2.1 实验材料 | 第26-27页 |
2.2 实验方案设计 | 第27页 |
2.3 材料分析测试方法 | 第27-32页 |
2.3.1 拉伸性能测量 | 第27-28页 |
2.3.2 金相组织检测 | 第28页 |
2.3.3 X射线衍射分析(XRD) | 第28-29页 |
2.3.4 X射线衍射半高宽法计算位错密度 | 第29页 |
2.3.5 X射线衍射法测定残余应力 | 第29-30页 |
2.3.6 扫描电子显微镜分析(SEM) | 第30-31页 |
2.3.7 高分辨透射电子显微镜分析(TEM) | 第31-32页 |
第三章 静磁场静态处理对7055铝合金组织和性能的影响 | 第32-52页 |
3.1 静磁场对7055铝合金微观组织的影响 | 第32-41页 |
3.1.1 静磁场对位错形态的影响 | 第32-35页 |
3.1.2 静磁场对位错密度的影响 | 第35-36页 |
3.1.3 静磁场对合金相和晶粒特征的影响 | 第36-37页 |
3.1.4 静磁场对相变的影响 | 第37-39页 |
3.1.5 静磁场对组织织构的影响 | 第39-41页 |
3.2 静磁场对7055铝合金力学性能的影响 | 第41-47页 |
3.2.1 静磁场对拉伸性能的影响 | 第41-44页 |
3.2.2 静磁场对试样断口形貌的影响 | 第44-45页 |
3.2.3 静磁场对合金内部残余应力的影响 | 第45-47页 |
3.3 静磁场和脉冲强磁场静态作用效果对比 | 第47-51页 |
3.3.1 前期对脉冲强磁场作用效果的研究 | 第47-48页 |
3.3.2 两种磁场作用机制和效果对比 | 第48-51页 |
3.4 本章小结 | 第51-52页 |
第四章 脉冲强磁场拉伸对7055铝合金组织和性能的影响 | 第52-64页 |
4.1 脉冲强磁场拉伸对7055铝合金微观组织的影响 | 第52-56页 |
4.1.1 脉冲强磁场拉伸对位错形态的影响 | 第52-54页 |
4.1.2 脉冲强磁场拉伸对位错密度的影响 | 第54-55页 |
4.1.3 脉冲强磁场拉伸对合金相和晶粒特征的影响 | 第55-56页 |
4.2 脉冲强磁场拉伸对7055铝合金力学性能的影响 | 第56-62页 |
4.2.1 脉冲强磁场拉伸对7055铝合金拉伸性能的影响 | 第56-59页 |
4.2.2 脉冲强磁场拉伸对试样断口形貌的影响 | 第59-61页 |
4.2.3 脉冲强磁场拉伸对合金内部残余应力的影响 | 第61-62页 |
4.3 本章小结 | 第62-64页 |
第五章 磁场作用下位错动力学机制分析 | 第64-69页 |
5.1 位错退钉扎机制分析 | 第64页 |
5.2 位错受力分析 | 第64-66页 |
5.3 位错运动过程分析 | 第66-67页 |
5.4 本章小结 | 第67-69页 |
第六章 全文总结及未来展望 | 第69-71页 |
6.1 全文总结 | 第69-70页 |
6.2 未来展望 | 第70-71页 |
参考文献 | 第71-75页 |
致谢 | 第75-76页 |
攻读硕士学位期间发表的论文 | 第76页 |