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涡旋光诱导不透明激光直写系统研究

致谢第5-7页
摘要第7-9页
Abstract第9-10页
第1章 绪论第13-33页
    1.1 课题研究的目的与意义第13-16页
    1.2 课题研究现状第16-25页
        1.2.1 纳米光纤斜触式光刻第16-18页
        1.2.2 纳米金属颗粒光刻第18-21页
        1.2.3 SPR超透镜光刻第21-22页
        1.2.4 负折射率透镜光刻第22-23页
        1.2.5 光致变色材料光刻第23-25页
    1.3 课题研究的内容与创新点第25-28页
        1.3.1 课题研究的内容第25-27页
        1.3.2 课题研究的创新点第27-28页
    参考文献第28-33页
第2章 光致变色材料第33-44页
    2.1 光致变色材料的发展史第33页
    2.2 光致变色机理第33-34页
    2.3 光致变色材料种类第34-37页
    2.4 光致变色材料的应用第37-39页
    2.5 本章小结第39-40页
    参考文献第40-44页
第3章 聚合物分散有机光致变色化合物薄膜的制备与性能第44-62页
    3.1 有机光致变色化合物的选择第44-52页
    3.2 有机光致变色化合物薄膜的制备与性能第52-57页
        3.2.1 PMMA高分子聚合物基质第53-55页
        3.2.2 PVA高分子聚合物基质第55-57页
    3.3 本章小结第57-58页
    参考文献第58-62页
第4章 涡旋光诱导不透明激光直写系统第62-86页
    4.1 涡旋光第62-71页
        4.1.1 涡旋光及其应用第62-65页
        4.1.2 涡旋光的产生方法第65-67页
        4.1.3 本课题涡旋光的产生第67-71页
    4.2 涡旋光诱导不透明激光直写系统第71-79页
        4.2.1 光路系统第71-75页
        4.2.2 涡旋光诱导不透明激光直写系统的用户操作界面第75-77页
        4.2.3 系统对焦第77-79页
    4.3 本章小结第79-81页
    参考文献第81-86页
第5章 涡旋光诱导不透明激光直写实验第86-113页
    5.1 光刻胶的涂覆第86-89页
    5.2 光刻胶曝光阈值的测定第89-91页
    5.3 涡旋光诱导不透明激光直写实验第91-93页
    5.4 涡旋光功率与曝光线条线宽之间的关系第93-102页
    5.5 与纳米光纤光刻实验结果的对比第102-111页
        5.5.1 FDTD建模与模拟计算第102-105页
        5.5.2 实验过程及结果第105-110页
        5.5.3 对比分析第110-111页
    5.6 本章小结第111-112页
    参考文献第112-113页
第6章 总结与展望第113-116页
    6.1 论文总结第113-114页
    6.2 未来工作展望第114-116页
攻读学位期间的科研成果第116-117页
作者简介第117页

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