摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第1章 绪论 | 第7-24页 |
1.1 引言 | 第7-10页 |
1.2 纳米压印技术 | 第10-14页 |
1.2.1 纳米压印技术的原理和发展历史 | 第10-12页 |
1.2.2 纳米压印技术的关键工艺 | 第12-13页 |
1.2.3 纳米压印技术在加工有机电子材料方面的应用 | 第13-14页 |
1.3 静电纺丝技术 | 第14-20页 |
1.3.1 静电纺丝技术的原理和发展历史 | 第14-16页 |
1.3.2 静电纺丝技术的核心工艺 | 第16-18页 |
1.3.3 静电纺丝技术在加工有机电子材料方面的应用 | 第18-20页 |
1.4 本论文的选题依据和主要内容 | 第20-21页 |
参考文献 | 第21-24页 |
第2章 PEDOT:PSS薄膜及PEDOT:PSS/PVP溶液的制备 | 第24-32页 |
2.1 PEDOT:PSS结构特性 | 第24-25页 |
2.2 PEDOT:PSS薄膜的制备 | 第25-30页 |
2.2.1 制备方法 | 第26-27页 |
2.2.2 制备仪器 | 第27页 |
2.2.3 制备流程 | 第27-28页 |
2.2.4 PEDOT:PSS薄膜的表征 | 第28-30页 |
2.3 PEDOT:PSS/PVP溶液的制备 | 第30页 |
2.3.1 制备方法 | 第30页 |
2.3.2 制备仪器 | 第30页 |
2.3.3 制备流程 | 第30页 |
2.4 小结 | 第30-31页 |
参考文献 | 第31-32页 |
第3章 PEDOT:PSS纳米压印结构的制备及表征 | 第32-47页 |
3.1 纳米压印结构的制备 | 第32-37页 |
3.1.1 压印模板的制备 | 第32页 |
3.1.2 压印模板的表面疏水处理 | 第32-33页 |
3.1.3 热压印技术制备纳米压印结构 | 第33-37页 |
3.2 纳米压印结构的表征 | 第37-45页 |
3.2.1 PEDOT:PSS纳米压印结构的SEM分析 | 第37-40页 |
3.2.2 纳米压印对PEDOT:PSS导电性影响分析 | 第40-44页 |
3.2.3 PEDOT:PSS纳米压印结构的疏水性测试 | 第44-45页 |
3.3 小结 | 第45页 |
参考文献 | 第45-47页 |
第4章 PEDOT:PSS静电纺丝纳米结构的制备及表征 | 第47-58页 |
4.1 静电纺丝纳米结构的制备 | 第47-50页 |
4.1.1 PEDOT:PSS/PVP混合溶液的制备 | 第47页 |
4.1.2 静电纺丝技术制备PEDOT:PSS纳米结构 | 第47-50页 |
4.2 静电纺丝纳米结构的表征 | 第50-52页 |
4.2.1 PEDOT:PSS/PVP复合纳米纤维的SEM分析 | 第50-51页 |
4.2.2 PEDOT:PSS/PVP复合纳米纤维的Raman分析 | 第51-52页 |
4.3 基于PEDOT:PSS/PVP复合纳米纤维薄膜的气体传感器 | 第52-56页 |
4.3.1 金属插指电极的制备 | 第52-53页 |
4.3.2 PEDOT:PSS/PVP复合纳米纤维薄膜的制备 | 第53-54页 |
4.3.3 传感器的传感性能测试 | 第54-56页 |
4.4 小结 | 第56页 |
参考文献 | 第56-58页 |
第5章 总结和展望 | 第58-62页 |
5.1 总结 | 第58-59页 |
5.2 展望 | 第59-60页 |
参考文献 | 第60-62页 |
附录:攻读硕士期间发表的论文 | 第62-63页 |
致谢 | 第63-64页 |