| 摘要 | 第6-8页 |
| Abstract | 第8-9页 |
| 第1章 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 荧光 | 第10-11页 |
| 1.2 荧光探针 | 第11-13页 |
| 1.3 BODIPY染料和Aza-BODIPY染料 | 第13-20页 |
| 1.4 本论文的研究工作 | 第20-22页 |
| 第2章 醛基修饰的氮杂氟硼吡咯衍生物对氰根离子的响应 | 第22-32页 |
| 2.1 引言 | 第22页 |
| 2.2 实验部分 | 第22-24页 |
| 2.3 L1的光谱性质 | 第24-25页 |
| 2.4 L1对氰根离子的检测 | 第25-30页 |
| 2.5 L1对CN~-的氢谱结果分析 | 第30-31页 |
| 2.6 本章小结 | 第31-32页 |
| 第3章 氮杂氟硼吡咯化合物对氰根离子的检测机理 | 第32-42页 |
| 3.1 引言 | 第32页 |
| 3.2 实验部分 | 第32-33页 |
| 3.3 L2和L3对CN~-的响应 | 第33-36页 |
| 3.4 Aza-BODIPY化合物和CN~-的反应位点 | 第36-38页 |
| 3.5 L3与CN~-的相近加成产物的晶体结构分析 | 第38-40页 |
| 3.6 本章小结 | 第40-42页 |
| 第4章 氮杂氟硼吡咯化合物结构对氰根离子的检测的影响 | 第42-52页 |
| 4.1 引言 | 第42页 |
| 4.2 实验部分 | 第42-45页 |
| 4.3 化合物L4，L5和L6的光谱性质 | 第45-46页 |
| 4.4 化合物L4，L5和L6对CN~-的响应 | 第46-51页 |
| 4.5 本章小结 | 第51-52页 |
| 第5章 硝基乙烯基修饰的四苯乙烯化合物的合成及其应用的研究 | 第52-62页 |
| 5.1 引言 | 第52页 |
| 5.2 实验部分 | 第52-54页 |
| 5.3 化合物M1的AIE性质 | 第54页 |
| 5.4 化合物M1的对HSO_3~-的响应 | 第54-60页 |
| 5.5 本章小结 | 第60-62页 |
| 第6章 总结与展望 | 第62-64页 |
| 6.1 总结 | 第62页 |
| 6.2 展望 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-74页 |
| 附录A 药品和试剂 | 第74-76页 |
| 硕士期间科研成果 | 第76-78页 |
| 致谢 | 第78页 |
