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大面积PCB投影扫描式激光曝光机的研制

摘要第1-5页
Abstract第5-7页
目录第7-9页
Content第9-11页
第一章 绪论第11-18页
   ·本课题的研究背景第11-13页
   ·传统的光学曝光技术第13-16页
     ·接触式成像技术第13-14页
     ·接近式成像技术第14-15页
     ·步进重复成像技术第15页
     ·激光直接成像技术第15-16页
   ·LPI激光投影成像技术第16-17页
   ·本论文的研究内容第17-18页
第二章 整机的主要性能指标第18-21页
   ·光刻分辨力第18页
   ·光刻焦深第18-19页
   ·生产效率第19-20页
   ·小结第20-21页
第三章 准分子激光微加工技术第21-28页
   ·准分子激光微细加工的特点第21-22页
     ·单光子能量高第21-22页
     ·峰值功率高第22页
     ·分辨力高第22页
   ·准分子激光器的原理第22-24页
   ·TOL型XeF激光器的光束质量第24-26页
   ·小结第26-28页
第四章 曝光机的光学系统第28-37页
   ·光学照明系统第29-34页
     ·光学设计第30-31页
     ·光束的均匀性第31-32页
     ·照明系统的机械制造第32-34页
   ·光学投影系统第34-36页
     ·光学设计第34-35页
     ·投影系统的机械制造第35-36页
     ·投影系统与照明系统的匹配第36页
   ·小结第36-37页
第五章 X-Y移动工作台的设计第37-44页
   ·六角形无接缝扫描技术第37-38页
   ·精密工作台的设计结构第38-42页
     ·工作台的主要性能指标第38页
     ·工作台的设计结构第38-39页
     ·驱动电机的选择第39-40页
     ·电控系统设计第40-42页
   ·机械部分与光学部分的匹配第42-43页
   ·小结第43-44页
第六章 光刻实验及结果第44-51页
   ·光刻工艺流程第44-45页
   ·投影扫描曝光实验第45-50页
     ·光刻胶第45-46页
     ·实验前的准备第46-47页
     ·实验步骤及结果第47-50页
   ·小结第50-51页
结论第51-54页
主要参考文献第54-57页
发表的学术论文及申请的专利第57-59页
致谢第59页

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