| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-29页 |
| 1.1 ITO透明导电薄膜简介 | 第11页 |
| 1.2 ITO透明导电薄膜的结构和性能 | 第11-13页 |
| 1.2.1 ITO薄膜的光学性质 | 第11-12页 |
| 1.2.2 ITO薄膜的电学性质 | 第12-13页 |
| 1.3 ITO透明导电薄膜的应用 | 第13-14页 |
| 1.3.1 电子工业方面的应用 | 第13页 |
| 1.3.2 太阳能电池方面的应用 | 第13页 |
| 1.3.3 隐身、防护方面的应用 | 第13-14页 |
| 1.3.4 高层建筑方面的应用 | 第14页 |
| 1.3.5 交通工具方面的应用 | 第14页 |
| 1.3.6 其他方面的应用 | 第14页 |
| 1.4 ITO透明导电薄膜的制备方法 | 第14-21页 |
| 1.4.1 磁控溅射法 | 第14-16页 |
| 1.4.2 真空蒸发法 | 第16页 |
| 1.4.3 脉冲激光沉积法 | 第16-17页 |
| 1.4.4 溶胶-凝胶法 | 第17-19页 |
| 1.4.5 化学气相沉积法 | 第19页 |
| 1.4.6 喷雾热解法 | 第19-21页 |
| 1.4.7 液相沉积法 | 第21页 |
| 1.4.8 微波ECR等离子体反应蒸发沉积 | 第21页 |
| 1.5 ITO薄膜的资源及发展前景 | 第21-23页 |
| 1.5.1 ITO薄膜的资源 | 第21页 |
| 1.5.2 ITO发展前景 | 第21-23页 |
| 1.6 超声波喷雾简介 | 第23-24页 |
| 1.7 微波能简介 | 第24-26页 |
| 1.7.1 微波加热的特点 | 第24-25页 |
| 1.7.2 微波加热的应用 | 第25-26页 |
| 1.8 超声喷雾微波热解制取ITO薄膜的研究内容及意义 | 第26-27页 |
| 1.8.1 文章研究内容 | 第26-27页 |
| 1.8.2 文章研究意义 | 第27页 |
| 1.9 本章小结 | 第27-29页 |
| 第二章 实验方法 | 第29-35页 |
| 2.1 制备ITO薄膜实验原理 | 第29页 |
| 2.2 制备ITO薄膜实验试剂 | 第29页 |
| 2.3 制备ITO薄膜试验仪器 | 第29-30页 |
| 2.4 制备ITO薄膜试验过程及实验装置 | 第30-33页 |
| 2.4.1 制备ITO薄膜实验流程图 | 第30-31页 |
| 2.4.2 生产ITO透明导电薄膜实验过程 | 第31-33页 |
| 2.5 ITO薄膜的表征 | 第33-34页 |
| 2.6 本章小结 | 第34-35页 |
| 第三章 微波热解温度等因素对ITO薄膜形貌及性能影响 | 第35-61页 |
| 3.1 ITO薄膜生成的热力学计算 | 第35-36页 |
| 3.2 前驱体物质的差热差重分析 | 第36-37页 |
| 3.3 微波热源对基片及前驱溶液加热的性能研究 | 第37-39页 |
| 3.3.1 基片的微波加热特性 | 第37-38页 |
| 3.3.2 前驱体溶液的吸波性能 | 第38-39页 |
| 3.4 ITO薄膜沉积过程 | 第39-40页 |
| 3.5 微波热解温度对ITO薄膜结构和性能的影响 | 第40-50页 |
| 3.5.1 不同温度制备ITO薄膜的XRD、EDS分析 | 第40-42页 |
| 3.5.2 不同温度制备ITO薄膜的微观形貌变化 | 第42-44页 |
| 3.5.3 不同温度制备ITO薄膜的表面粗糙度 | 第44-45页 |
| 3.5.4 不同温度制备ITO薄膜的透光率 | 第45-48页 |
| 3.5.5 不同温度制备ITO薄膜的电阻率变化规律 | 第48-50页 |
| 3.6 前驱体浓度对ITO薄膜结构和性能的影响 | 第50-54页 |
| 3.6.1 不同浓度前驱溶液对ITO薄膜结晶度影响 | 第50-51页 |
| 3.6.2 不同浓度前驱溶液制备ITO薄膜的微观形貌 | 第51-53页 |
| 3.6.3 不同浓度前驱溶液制备ITO薄膜光、电性能变化 | 第53-54页 |
| 3.7 喷嘴与基片距离对ITO薄膜的结构和性能影响 | 第54-57页 |
| 3.7.1 喷嘴-基片距离不同得到的ITO薄膜生长取向研究 | 第54-55页 |
| 3.7.2 喷嘴-基片距离不同制备ITO薄膜的微观形貌变化 | 第55-56页 |
| 3.7.3 喷嘴-基片距离不同制备ITO薄膜的光、电性能 | 第56-57页 |
| 3.8 加热方式对ITO薄膜微观结构和性能影响 | 第57-60页 |
| 3.8.1 传统加热与微波加热对薄膜生长取向情况对比 | 第58页 |
| 3.8.2 传统加热与微波加热得到的薄膜形貌对比 | 第58-59页 |
| 3.8.3 传统加热与微波加热制备的薄膜光、电性能对比 | 第59-60页 |
| 3.9 本章小结 | 第60-61页 |
| 第四章 Sn掺杂量对氧化铟锡薄膜性能影响研究 | 第61-67页 |
| 4.1 不同Sn掺杂量对氧化铟锡薄膜生长取向影响 | 第61-62页 |
| 4.2 不同Sn掺杂量对氧化铟锡薄膜晶粒生长影响 | 第62-63页 |
| 4.3 不同Sn掺杂量对氧化铟锡薄膜的光、电性能影响 | 第63-66页 |
| 4.4 本章小结 | 第66-67页 |
| 第五章 结论与展望 | 第67-69页 |
| 5.1 结论 | 第67-68页 |
| 5.2 展望 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69-71页 |
| 参考文献 | 第71-77页 |
| 附录A 硕士期间发表论文情况 | 第77-78页 |
| 附录B 硕士期间参与科研项目情况 | 第78页 |
