| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4-5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-14页 |
| 1.1 课题的来源、目的及意义 | 第8-9页 |
| 1.2 微弧氧化技术简介 | 第9页 |
| 1.3 微弧氧化技术的发展及现状 | 第9-12页 |
| 1.4 微弧氧化技术的应用状况 | 第12页 |
| 1.5 论文的主要研究内容 | 第12-14页 |
| 第2章 微弧氧化陶瓷膜生长机理分析 | 第14-20页 |
| 2.1 微弧氧化陶瓷膜生长过程研究 | 第14-16页 |
| 2.2 微弧氧化陶瓷膜生长的各阶段分析 | 第16-18页 |
| 2.3 微弧氧化陶瓷膜生长和相构成机理模型 | 第18页 |
| 2.4 本章小结 | 第18-20页 |
| 第3章 微弧氧化工艺规律的试验研究 | 第20-45页 |
| 3.1 试验设备与试验要件介绍 | 第20-22页 |
| 3.1.1 微弧氧化工艺对电源结构和性能的要求 | 第20-21页 |
| 3.1.2 试验装置 | 第21-22页 |
| 3.1.3 样品的准备与试验要件 | 第22页 |
| 3.2 微弧氧化陶瓷膜生长过程表征 | 第22-24页 |
| 3.3 氧化时间对铸造铝合金微弧氧化陶瓷膜的影响 | 第24-27页 |
| 3.4 电源参数对铸造铝合金微弧氧化膜层的影响 | 第27-34页 |
| 3.4.1 电流密度对铸造铝合金微弧氧化膜层的影响 | 第27-30页 |
| 3.4.2 脉冲频率对铸造铝合金微弧氧化生成陶瓷膜的影响 | 第30-32页 |
| 3.4.3 正负电流密度比对铸造铝合金微弧氧化生成陶瓷膜的影响 | 第32-34页 |
| 3.5 电解液对铸造铝合金微弧氧化膜层的影响 | 第34-44页 |
| 3.5.1 溶液体系对铸造铝合金微弧氧化陶瓷膜的影响 | 第34-37页 |
| 3.5.2 电解质浓度对铸造铝合金微弧氧化生成陶瓷膜的影响 | 第37-44页 |
| 3.6 本章小结 | 第44-45页 |
| 第4章 铸造铝合金微弧氧化陶瓷膜摩擦磨损特性的研究 | 第45-54页 |
| 4.1 陶瓷磨损过程的主要类型 | 第45-46页 |
| 4.2 摩擦过程的润滑状态 | 第46-47页 |
| 4.3 耐磨性试验设备及试验方法 | 第47页 |
| 4.4 微弧氧化膜层摩擦磨损特性的实测和讨论 | 第47-52页 |
| 4.4.1 微弧氧化陶瓷层的相对失重量随摩擦时间的变化特性 | 第47-48页 |
| 4.4.2 微弧氧化陶瓷层的摩擦系数及磨损率随载荷的变化特性 | 第48-50页 |
| 4.4.3 电流密度对陶瓷膜层耐磨性能的影响 | 第50-51页 |
| 4.4.4 电源输出频率对陶瓷膜层耐磨性能的影响 | 第51-52页 |
| 4.5 本章小结 | 第52-54页 |
| 结论 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
| 个人简历 | 第62页 |
