摘要 | 第5-6页 |
ABSTRACT | 第6页 |
第1章 绪论 | 第10-18页 |
1.1 课题背景 | 第10页 |
1.2 空间辐照环境因素与材料的交互作用 | 第10-13页 |
1.2.1 原子氧对聚合物及其复合材料的影响 | 第10-11页 |
1.2.2 真空紫外对聚合物及其复合材料的影响 | 第11页 |
1.2.3 原子氧和真空紫外协同辐照对聚合物及其复合材料的影响 | 第11-12页 |
1.2.4 空间辐照环境的地面模拟 | 第12-13页 |
1.3 材料概述 | 第13-16页 |
1.3.1 聚偏氟乙烯简介 | 第13-14页 |
1.3.2 无机粉体纳米TiO_2简介 | 第14页 |
1.3.3 无机纳米粉体TiO_2和聚偏氟乙烯薄膜的改性 | 第14-16页 |
1.4 本文的选题意义及主要内容 | 第16-18页 |
1.4.1 本文选题意义 | 第16页 |
1.4.2 本文主要内容 | 第16-18页 |
第2章 实验部分 | 第18-22页 |
2.1 实验原料 | 第18页 |
2.2 实验仪器 | 第18页 |
2.3 样品制备 | 第18-19页 |
2.4 试验测试方法 | 第19页 |
2.4.1 VUV辐照测试 | 第19页 |
2.4.2 AO辐照测试 | 第19页 |
2.4.3 AO+VUV辐照测试 | 第19页 |
2.5 试验表征方法 | 第19-22页 |
2.5.1 质量损失测试 | 第19-20页 |
2.5.2 力学性能测试 | 第20页 |
2.5.3 介电性能测试 | 第20-21页 |
2.5.4 XRD分析 | 第21页 |
2.5.5 FTIR分析 | 第21页 |
2.5.6 DSC分析 | 第21页 |
2.5.7 SEM分析 | 第21-22页 |
第3章 PVDF和PVDF/TiO_2薄膜VUV辐照效应 | 第22-36页 |
3.1 薄膜的制备 | 第22页 |
3.2 薄膜的VUV辐照 | 第22-23页 |
3.3 单位面积质量损失分析 | 第23页 |
3.4 力学性能分析 | 第23-25页 |
3.5 介电性能分析 | 第25-28页 |
3.5.1 介电损耗分析 | 第25-26页 |
3.5.2 介电常数分析 | 第26-28页 |
3.6 结构分析 | 第28-34页 |
3.6.1 XRD分析 | 第28-30页 |
3.6.2 DSC分析 | 第30-33页 |
3.6.3 SEM分析 | 第33-34页 |
3.7 本章小结 | 第34-36页 |
第4章 PVDF和PVDF/TiO_2薄膜AO辐照效应 | 第36-56页 |
4.1 AO通量的测量 | 第36-37页 |
4.2 薄膜的AO辐照 | 第37-38页 |
4.3 TiO_2含量对薄膜抗AO辐照性能的影响 | 第38-43页 |
4.3.1 单位面积质量损失分析 | 第38页 |
4.3.2 力学性能分析 | 第38-40页 |
4.3.3 介电性能分析 | 第40-42页 |
4.3.4 SEM分析 | 第42-43页 |
4.3.5 TiO_2含量对薄膜抗AO辐照性能的总结 | 第43页 |
4.4 AO辐照时间对薄膜耐候性能的影响 | 第43-55页 |
4.4.1 质量损失分析 | 第43-44页 |
4.4.2 力学性能分析 | 第44-46页 |
4.4.3 介电性能分析 | 第46-49页 |
4.4.4 结构分析 | 第49-55页 |
4.5 本章小结 | 第55-56页 |
第5章 PVDF和PVDF/TiO_2薄膜AO+VUV辐照效应 | 第56-76页 |
5.1 薄膜的AO+VUV协同辐照 | 第56页 |
5.2 纳米TiO_2含量对薄膜抗AO+VUV协同辐照性能的影响 | 第56-63页 |
5.2.1 单位面积质量损失分析 | 第56-57页 |
5.2.2 力学性能分析 | 第57-59页 |
5.2.3 介电性能分析 | 第59-61页 |
5.2.4 SEM分析 | 第61-63页 |
5.2.5 TiO_2含量对薄膜抗AO+VUV协同辐照性能的总结 | 第63页 |
5.3 AO+VUV协同辐照时间对薄膜耐候性能的影响 | 第63-74页 |
5.3.1 单位面积质量损失分析 | 第63-64页 |
5.3.2 力学性能分析 | 第64-65页 |
5.3.3 介电性能分析 | 第65-68页 |
5.3.4 结构分析 | 第68-74页 |
5.4 本章小结 | 第74-76页 |
结论 | 第76-77页 |
参考文献 | 第77-82页 |
攻读硕士学位期间承担的科研任务与主要成果 | 第82-83页 |
致谢 | 第83页 |