| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1 引言 | 第10-12页 |
| 1.1 卤键 | 第10-11页 |
| 1.2 碘叶立德 | 第11页 |
| 1.3 协同作用 | 第11-12页 |
| 2 理论基础 | 第12-15页 |
| 2.1 微扰理论 | 第12-13页 |
| 2.2 QTAIM理论 | 第13-15页 |
| 2.2.1 多电子体系的电子密度分布函数 | 第13页 |
| 2.2.2 拉普拉斯量 | 第13-14页 |
| 2.2.3 关键点 | 第14-15页 |
| 3 Cl O...XONO——2/XONO...NH——3 (X = Cl, Br, I)复合物中 σ-hole和 π-hole的协同作用的理论研究 | 第15-30页 |
| 3.1 计算方法 | 第16页 |
| 3.2 结果与讨论 | 第16-29页 |
| 3.2.1 几何构型，相互作用能，频率 | 第16-26页 |
| 3.2.2 从极化角度研究 σ-hole和 π-hole相互作用之间的负协同作用 | 第26-29页 |
| 3.3 结论 | 第29-30页 |
| 4 在叶立德体系中 σ-hole相互作用和卤键/氢键作用的相互加强 | 第30-44页 |
| 4.1 计算方法 | 第30-31页 |
| 4.2 结果和讨论 | 第31-43页 |
| 4.2.1 碘叶立德CH_2IH中 σ-hole | 第31-32页 |
| 4.2.2 在CH_2IH...NCX二体复合物和NCCl...CH_2IH...NCX (X = H, F, Cl, Br, I) 三体复合物中 σ-hole相互作用 | 第32-35页 |
| 4.2.3 在NCY...CH_2IH二体复合物和NCY...CH_2IH...NCCl (Y = H, F, Cl, Br, I) 三体复合物中卤键/氢键相互作用 | 第35-36页 |
| 4.2.4 QTAIM分析 | 第36-40页 |
| 4.2.5 分子生成密度差分析 | 第40-43页 |
| 4.3 结论 | 第43-44页 |
| 5 第IIIA,IVA,VA主族 π 型相互作用的理论探究 | 第44-50页 |
| 5.1 计算方法 | 第44页 |
| 5.2 结果与讨论 | 第44-49页 |
| 5.2.1 构型的静电势分析 | 第44-45页 |
| 5.2.2 二体的构型分析 | 第45-46页 |
| 5.2.3 ELF分析 | 第46-48页 |
| 5.2.4 MFDD分析 | 第48-49页 |
| 5.3 结论 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-55页 |
| 攻读学位期间科研成果 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56页 |
