基于SOI的三轴电容式微加速度计的设计、仿真与工艺研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-18页 |
| 1.1 研究背景 | 第10-14页 |
| 1.1.1 MEMS简介 | 第10-11页 |
| 1.1.2 SOI技术简介 | 第11-12页 |
| 1.1.3 微加速度计的分类与特点 | 第12-14页 |
| 1.2 微加速度计的发展现状 | 第14-15页 |
| 1.3 选题依据与研究意义 | 第15-16页 |
| 1.4 本文主要内容 | 第16-18页 |
| 第二章 MEMS微细加工技术概述 | 第18-29页 |
| 2.1 集成电路工艺基础 | 第18-25页 |
| 2.1.1 氧化技术 | 第18-21页 |
| 2.1.2 光刻技术 | 第21-22页 |
| 2.1.3 薄膜淀积技术 | 第22-25页 |
| 2.2 MEMS微细加工技术 | 第25-28页 |
| 2.2.1 体微加工技术 | 第25-27页 |
| 2.2.2 表面微加工技术 | 第27-28页 |
| 2.2.3 特种微加工技术 | 第28页 |
| 2.3 本章小结 | 第28-29页 |
| 第三章 电容式微加速度计的结构设计 | 第29-40页 |
| 3.1 微加速度计的基本工作原理 | 第29-30页 |
| 3.2 微加速度计的结构设计 | 第30-39页 |
| 3.2.1 检测电容的设计 | 第31-35页 |
| 3.2.2 支撑梁的设计 | 第35-38页 |
| 3.2.3 敏感质量块的设计 | 第38-39页 |
| 3.3 本章小结 | 第39-40页 |
| 第四章 电容式微加速度计的结构仿真分析 | 第40-53页 |
| 4.1 有限元法和Ansys软件 | 第40-41页 |
| 4.1.1 有限元法介绍 | 第40页 |
| 4.1.2 Ansys14.0 简介 | 第40-41页 |
| 4.2 微加速度计的结构静力学分析 | 第41-48页 |
| 4.2.1 器件层厚度h的影响分析 | 第41-47页 |
| 4.2.2 线性度分析 | 第47页 |
| 4.2.3 量程分析 | 第47-48页 |
| 4.3 微加速度计的结构动力学分析 | 第48-52页 |
| 4.3.1 模态分析 | 第48-51页 |
| 4.3.2 谐响应分析 | 第51-52页 |
| 4.4 本章小结 | 第52-53页 |
| 第五章 电容式微加速度计的制造工艺研究 | 第53-72页 |
| 5.1 实验室工艺条件 | 第53-55页 |
| 5.2 微加速度计的制造工艺研究 | 第55-69页 |
| 5.2.1 镀膜工艺研究 | 第56-57页 |
| 5.2.2 光刻工艺研究 | 第57-61页 |
| 5.2.3 干法刻蚀工艺研究 | 第61-66页 |
| 5.2.4 二氧化硅腐蚀工艺研究 | 第66-67页 |
| 5.2.5 Al的腐蚀及Cr的剥离工艺 | 第67-69页 |
| 5.3 微加速度计的工艺流程 | 第69-71页 |
| 5.4 本章小结 | 第71-72页 |
| 第六章 全文总结与展望 | 第72-74页 |
| 6.1 全文总结 | 第72-73页 |
| 6.2 工作展望 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-78页 |
| 攻读硕士学位期间取得的成果 | 第78-79页 |
