摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第10-20页 |
1.1 研究背景 | 第10-16页 |
1.1.1 根管锉简介 | 第10-15页 |
1.1.2 根管锉表面改性概述 | 第15-16页 |
1.2 多弧离子镀技术概述 | 第16-18页 |
1.3 研究意义与技术路线 | 第18-20页 |
1.3.1 研究意义 | 第18-19页 |
1.3.2 技术路线 | 第19-20页 |
第2章 试验材料及方法 | 第20-34页 |
2.1 镀膜设备与靶材选择 | 第20-22页 |
2.2 镀膜基材的选取及预处理 | 第22-23页 |
2.3 TiZrON膜层的沉积工艺分析 | 第23-26页 |
2.3.1 负偏压的影响 | 第23-24页 |
2.3.2 阴极靶电流的影响 | 第24-25页 |
2.3.3 反应气体分压的影响 | 第25页 |
2.3.4 镀膜温度的影响 | 第25页 |
2.3.5 沉积时间与转动速率的影响 | 第25-26页 |
2.4 TiZrON膜层沉积试验工艺 | 第26-28页 |
2.5 镀覆TiZrON膜层根管锉的表面形貌、成分、相组成 | 第28-30页 |
2.6 镀膜根管锉耐腐蚀性试验及分析 | 第30页 |
2.7 镀膜根管锉的模拟临床试验 | 第30-34页 |
第3章 TiZrON膜层组织、成分及相组成 | 第34-48页 |
3.1 NiTi根管挫表面镀覆TiZrON膜层 | 第34-41页 |
3.1.1 Ti ZrON膜层表面形貌 | 第34-36页 |
3.1.2 TiZrON膜层表面成分 | 第36-39页 |
3.1.3 膜层相组成分析 | 第39-41页 |
3.2 不锈钢根管挫表面镀覆TiZrON膜层 | 第41-47页 |
3.2.1 TiZrON膜层表面形貌 | 第41-42页 |
3.2.2 TiZrON膜层表面成分 | 第42-45页 |
3.2.3 膜层相组成分析 | 第45-47页 |
3.3 小结 | 第47-48页 |
第4章 TiZrON膜层耐蚀性试验及分析 | 第48-60页 |
4.1 镀覆TiZrON膜层的NiTi根管挫耐蚀性 | 第52-54页 |
4.1.1 膜层氧含量的影响 | 第52-53页 |
4.1.2 偏压和氧流量的影响 | 第53-54页 |
4.2 镀覆TiZrON膜层的不锈钢根管锉耐蚀性 | 第54-56页 |
4.2.1 氧含量的影响 | 第54-55页 |
4.2.2 偏压和氧流量的影响 | 第55-56页 |
4.3 对比分析与讨论 | 第56-59页 |
4.3.1 NiTi根管锉镀膜前后的耐蚀性对比 | 第56-57页 |
4.3.2 不锈钢根管锉镀膜前后的耐蚀性对比 | 第57-58页 |
4.3.3 镀膜后的NiTi根管锉与不锈钢根管锉的耐蚀性对比 | 第58-59页 |
4.4 小结 | 第59-60页 |
第5章 模拟根管预备对比试验 | 第60-72页 |
5.1 镀覆TiZrON膜层的NiTi根管挫 | 第60-64页 |
5.2 镀覆TiZrON膜层的不锈钢根管挫 | 第64-68页 |
5.3 对比分析与讨论 | 第68-70页 |
5.4 小结 | 第70-72页 |
第6章 结论 | 第72-74页 |
参考文献 | 第74-78页 |
在学研究成果 | 第78-80页 |
致谢 | 第80-81页 |