| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-19页 |
| ·引言 | 第11-12页 |
| ·Bi_2O_3和Bi_2O_2CO_3光催化剂研究现状 | 第12-18页 |
| ·半导体光催化剂技术发展 | 第12页 |
| ·半导体光催化剂的催化机理 | 第12-13页 |
| ·Bi_2O_3光催化剂研究现状 | 第13-15页 |
| ·Bi_2O_2CO_3光催化剂研究现状 | 第15-17页 |
| ·Bi_2O_3和Bi_2O_2CO_3的关系 | 第17-18页 |
| ·本论文主要研究内容和意义 | 第18-19页 |
| ·研究内容 | 第18页 |
| ·研究意义 | 第18-19页 |
| 第2章 第一性原理计算 | 第19-24页 |
| ·引言 | 第19页 |
| ·密度泛函理论 | 第19-22页 |
| ·Thoms-Fermi模型 | 第20页 |
| ·Hohenberg-Kohn定理 | 第20-21页 |
| ·Kohn-Sham定理 | 第21页 |
| ·交换关联能 | 第21-22页 |
| ·Castep软件包的简介 | 第22-24页 |
| 第3章 Bi_2O_3N掺杂Bi_2O_3第一性原理研究 | 第24-38页 |
| ·Bi_2O_3晶体结构与光电性质的研究 | 第24-29页 |
| ·前言 | 第24页 |
| ·计算方法和构建模型 | 第24-25页 |
| ·晶体结构的变化 | 第25页 |
| ·能带结构和电子态密度 | 第25-28页 |
| ·光学性质 | 第28-29页 |
| ·N掺杂对Bi_2O_3光电性质的研究 | 第29-36页 |
| ·引言 | 第29-30页 |
| ·计算方法和构建模型 | 第30-31页 |
| ·晶体结构和热力学稳定性 | 第31-35页 |
| ·光学性质 | 第35-36页 |
| ·本章小结 | 第36-38页 |
| 第4章 N掺杂Bi_2O_2CO_3第一性原理研究 | 第38-52页 |
| ·N掺杂对Bi_2O_2CO_3(001)而的影响 | 第38-46页 |
| ·引言 | 第38-39页 |
| ·计算方法和模型构建 | 第39-42页 |
| ·表而结构和稳定性 | 第42-44页 |
| ·能带结构和态密度 | 第44-45页 |
| ·光学性质 | 第45-46页 |
| ·N体相掺杂对Bi_2O_2CO_3的影响 | 第46-50页 |
| ·引言 | 第46页 |
| ·计算方法和模型构建 | 第46-47页 |
| ·晶体结构和稳定性 | 第47-48页 |
| ·能带结构和态密度 | 第48-49页 |
| ·光学性质 | 第49-50页 |
| ·掺杂机理 | 第50-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 第5章 氧缺陷对体相Bi_2O_2CO_3光电性质影响研究 | 第52-63页 |
| ·引言 | 第52-53页 |
| ·第一性原理计算 | 第53-58页 |
| ·计算方法和模型的建立 | 第53-54页 |
| ·晶体结构和稳定性 | 第54-55页 |
| ·能带结构和态密度 | 第55-57页 |
| ·光学性质 | 第57-58页 |
| ·实验部分 | 第58-61页 |
| ·实验用品及仪器 | 第58-59页 |
| ·实验过程 | 第59页 |
| ·材料表征及分析方法 | 第59-60页 |
| ·结果和讨论 | 第60-61页 |
| ·本章小结 | 第61-63页 |
| 第6章 Bi_2O3和Bi_2O_2CO_3间关系 | 第63-72页 |
| ·引言 | 第63页 |
| ·第一性原理计算 | 第63-64页 |
| ·计算方法和模型构建 | 第63-64页 |
| ·实验部分 | 第64-66页 |
| ·实验用品及仪器 | 第64页 |
| ·实验过程 | 第64-65页 |
| ·材料表征及分析方法 | 第65-66页 |
| ·结果和讨论 | 第66-71页 |
| ·本章小结 | 第71-72页 |
| 第7章 结论与展望 | 第72-75页 |
| ·结论 | 第72-73页 |
| ·展望 | 第73-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-83页 |
| 攻读硕士学位期间发表论文、参与课题及获奖情况 | 第83-84页 |
