| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-15页 |
| 第1章 绪论 | 第15-28页 |
| ·镁及镁合金简介 | 第15-17页 |
| ·镁合金的分类及性能 | 第15-16页 |
| ·镁合金的应用 | 第16-17页 |
| ·镁及镁合金的腐蚀 | 第17-19页 |
| ·常见的镁合金表面处理技术 | 第19-22页 |
| ·阳极氧化 | 第19-20页 |
| ·化学转化 | 第20页 |
| ·金属镀层 | 第20-21页 |
| ·其他新型处理方法 | 第21-22页 |
| ·微弧氧化技术概述 | 第22-27页 |
| ·微弧氧化技术的特点及应用 | 第22-23页 |
| ·微弧氧化膜的制备方法 | 第23-25页 |
| ·微弧氧化成膜机理 | 第25-26页 |
| ·微弧氧化技术的不足 | 第26-27页 |
| ·本课题研究的主要内容 | 第27页 |
| ·本课题的特点及创新之处 | 第27-28页 |
| 第2章 实验条件和检测方法 | 第28-35页 |
| ·实验材料 | 第28页 |
| ·实验仪器及设备 | 第28-29页 |
| ·实验药品 | 第29-30页 |
| ·实验方法 | 第30-31页 |
| ·实验流程图 | 第30页 |
| ·粉体的制备 | 第30页 |
| ·试样前处理 | 第30-31页 |
| ·电解液配置 | 第31页 |
| ·微弧氧化处理 | 第31页 |
| ·试样后处理 | 第31页 |
| ·正交试验 | 第31-32页 |
| ·膜层性能测试方法 | 第32-35页 |
| ·外观等级评价 | 第32页 |
| ·厚度的检测 | 第32-33页 |
| ·膜层耐蚀性测试 | 第33-34页 |
| ·膜层表面微观形貌 | 第34页 |
| ·膜层相成分分析 | 第34-35页 |
| 第3章 磁性铁氧体复合镁合金微弧氧化膜的研究 | 第35-54页 |
| ·前言 | 第35页 |
| ·微弧氧化电解液配方和实验参数的研究 | 第35-39页 |
| ·硅酸钠对微弧氧化膜耐蚀性能的影响 | 第36-37页 |
| ·氟化钠对微弧氧化膜耐蚀性的影响 | 第37页 |
| ·微弧氧化时间对微弧氧化膜耐蚀性的影响 | 第37-39页 |
| ·微弧氧化工艺的优化 | 第39-40页 |
| ·磁性铁氧体的制备 | 第40-41页 |
| ·磁性铁氧体改性镁合金微弧氧化工艺的研究 | 第41-49页 |
| ·磁性铁氧体添加量对膜层厚度及耐蚀性的影响 | 第42-43页 |
| ·微弧氧化膜层表面微观形貌 | 第43-45页 |
| ·加入铁氧体后EDS谱图分析 | 第45-47页 |
| ·微弧氧化复合膜层相组成 | 第47页 |
| ·电化学测试 | 第47-48页 |
| ·浸泡实验 | 第48-49页 |
| ·外加磁场对复合膜层的影响 | 第49-52页 |
| ·表面形貌及EDS面扫描图 | 第49-51页 |
| ·电化学测试 | 第51-52页 |
| ·膜层磁性能测试 | 第52页 |
| ·本章小结 | 第52-54页 |
| 第4章 磁性镍粉复合镁合金微弧氧化膜的研究 | 第54-68页 |
| ·前言 | 第54页 |
| ·纳米镍粉的制备 | 第54-55页 |
| ·微弧氧化粉体添加量的优选 | 第55-57页 |
| ·点滴实验 | 第55-56页 |
| ·电化学分析 | 第56-57页 |
| ·磁性纳米镍粉改性微弧氧化工艺的研究 | 第57-62页 |
| ·微弧氧化膜层表面微观形貌 | 第57-59页 |
| ·加入镍粉后EDS谱图分析 | 第59-60页 |
| ·微弧氧化复合膜层相组成 | 第60-61页 |
| ·电化学分析 | 第61-62页 |
| ·添加剂对微弧氧化膜的影响 | 第62-63页 |
| ·微观形貌分析 | 第62页 |
| ·电化学分析 | 第62-63页 |
| ·封闭方式对微弧氧化复合膜的影响 | 第63-66页 |
| ·微观形貌分析 | 第64-65页 |
| ·电化学分析 | 第65-66页 |
| ·膜层磁性能测试 | 第66页 |
| ·本章小结 | 第66-68页 |
| 第5章 磁性镍包覆碳化硅复合镁合金微弧氧化膜的研究 | 第68-82页 |
| ·引言 | 第68页 |
| ·镍包覆碳化硅粉体的制备 | 第68-70页 |
| ·SiC粉体前处理 | 第68页 |
| ·SiC粉体活化 | 第68-69页 |
| ·粉体镀镍 | 第69-70页 |
| ·镍包覆碳化硅粉体添加量的优选 | 第70-73页 |
| ·复合膜层的微观形貌图 | 第70-71页 |
| ·点滴实验 | 第71-72页 |
| ·电化学分析 | 第72-73页 |
| ·磁性镍包覆碳化硅粉体改性微弧氧化工艺的研究 | 第73-76页 |
| ·微弧氧化膜层表面微观形貌 | 第73-74页 |
| ·微弧氧化复合膜层相组成 | 第74-75页 |
| ·电化学分析 | 第75-76页 |
| ·超声波对微弧氧化复合膜的影响 | 第76-77页 |
| ·微观形貌分析 | 第76页 |
| ·电化学分析 | 第76-77页 |
| ·封闭实验对微弧氧化复合膜的影响 | 第77-79页 |
| ·封闭处理工艺 | 第77-78页 |
| ·点滴实验 | 第78页 |
| ·电化学分析 | 第78-79页 |
| ·膜层磁性能测试 | 第79-80页 |
| ·本章小结 | 第80-82页 |
| 结论 | 第82-84页 |
| 参考文献 | 第84-89页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文和获得的科研成果 | 第89-90页 |
| 致谢 | 第90-91页 |