| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 引言 | 第10-11页 |
| 1 绪论 | 第11-21页 |
| ·固体激光器的研究概况 | 第11-12页 |
| ·2.0 μm固体激光器的研究现状 | 第12-15页 |
| ·激光工作物质 | 第12-13页 |
| ·Tm单掺激光器 | 第13-14页 |
| ·Tm，Ho双掺激光器 | 第14-15页 |
| ·氟化物晶体 | 第15-19页 |
| ·氟化钇锂(LiYF_4)晶体 | 第15-18页 |
| ·氟化镥锂(LiLu F_4)晶体 | 第18-19页 |
| ·本文研究内容 | 第19-21页 |
| 2 氟化物晶体材料的制备和性能表征 | 第21-28页 |
| ·实验原料 | 第21页 |
| ·氟化物晶体样品的制备 | 第21-25页 |
| ·实验原料的氟化处理 | 第21-23页 |
| ·晶体的生长过程 | 第23-24页 |
| ·晶体加工处理成样品 | 第24-25页 |
| ·晶体的性能表征 | 第25-26页 |
| ·X射线衍射谱 | 第25页 |
| ·吸收光谱 | 第25页 |
| ·透射光谱 | 第25-26页 |
| ·拉曼光谱 | 第26页 |
| ·荧光分析法 | 第26页 |
| ·实验仪器 | 第26页 |
| ·本章小结 | 第26-28页 |
| 3 Tm~(3+)在氟化物晶体中的吸收光谱和Judd-Ofelt理论分析 | 第28-40页 |
| ·Tm~(3+)离子的发光机理 | 第28-30页 |
| ·Tm~(3+)离子的能级结构 | 第28-29页 |
| ·影响稀土离子发光的因素 | 第29-30页 |
| ·单掺的氟化物晶体的吸收光谱 | 第30-33页 |
| ·不同浓度掺杂Tm~(3+):LiYF_4晶体的吸收光谱 | 第30-32页 |
| ·不同浓度掺杂Tm~(3+):LiLuF_4的吸收光谱 | 第32-33页 |
| ·单掺Tm~(3+)的氟化物晶体的Judd-Ofelt理论分析 | 第33-39页 |
| ·稀土离子在晶体中的Judd-Ofelt理论 | 第33-36页 |
| ·掺杂不同浓度Tm~(3+)的LiYF_4晶体的光谱参数计算 | 第36-38页 |
| ·掺杂不同浓度Tm~(3+)的LiLu F_4晶体的光谱参数计算 | 第38-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 4 不同浓度的Tm~(3+)离子在 1.8 μm波段的荧光特性 | 第40-53页 |
| ·Tm~(3+)离子的能级交叉弛豫效应 | 第40-41页 |
| ·不同浓度Tm~(3+)离子在 1.8 μm波段的荧光特性 | 第41-43页 |
| ·Tm~(3+):LiYF_4晶体的荧光光谱 | 第41-42页 |
| ·Tm~(3+):LiLuF_4晶体的荧光光谱 | 第42-43页 |
| ·吸收截面和发射截面 | 第43-48页 |
| ·荧光衰减特性 | 第48-51页 |
| ·Tm~(3+):LiYF_4晶体的荧光衰减曲线 | 第48-49页 |
| ·Tm~(3+):LiLuF_4晶体的荧光衰减曲线 | 第49-51页 |
| ·本章小结 | 第51-53页 |
| 5 Tm~(3+)/Ho~(3+):LiYF_4晶体的制备和光谱特性 | 第53-63页 |
| ·引言 | 第53页 |
| ·Tm~(3+)/ Ho~(3+)双掺LiYF_4晶体的制备 | 第53-54页 |
| ·结果与讨论 | 第54-62页 |
| ·XRD对比图 | 第54-56页 |
| ·吸收图谱 | 第56页 |
| ·荧光光谱及能量转换机理分析 | 第56-58页 |
| ·吸收截面和发射截面 | 第58-59页 |
| ·荧光衰减寿命分析 | 第59-62页 |
| ·本章结论 | 第62-63页 |
| 6 Tm~(3+):LiYF_4晶体在 2.0-4.0 μm波段的光谱性质 | 第63-70页 |
| ·引言 | 第63-64页 |
| ·实验制备 | 第64页 |
| ·实验结果与讨论 | 第64-69页 |
| ·XRD图 | 第64-65页 |
| ·透射光谱和吸收光谱 | 第65-66页 |
| ·荧光光谱图和能级寿命 | 第66-69页 |
| ·本章小结 | 第69-70页 |
| 7 结论 | 第70-72页 |
| 参考文献 | 第72-78页 |
| 在学研究成果 | 第78-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |
