基于嵌段聚合物膜的高级皱纹结构的制备
| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-23页 |
| ·高分子膜上复杂微-纳结构的构筑与加工 | 第7-22页 |
| ·光刻 | 第7-8页 |
| ·纳米压印 | 第8-9页 |
| ·基于扫描探针显微镜（SPM）的加工技术 | 第9页 |
| ·表面不稳定 | 第9-16页 |
| ·嵌段聚合物的微相分离 | 第16-22页 |
| ·研究思路及创新之处 | 第22-23页 |
| 第二章 实验原料及实验设备 | 第23-26页 |
| ·实验原料 | 第23-24页 |
| ·PDMS 的性质 | 第23-24页 |
| ·PS-b-P4VP 的性质 | 第24页 |
| ·实验设备 | 第24-25页 |
| ·表征手段 | 第25-26页 |
| ·倒置荧光显微镜（IFM）分析 | 第25页 |
| ·扫描电镜（SEM）分析 | 第25页 |
| ·原子力显微镜（AFM）分析 | 第25-26页 |
| 第三章 微相分离结合模板法压印法 | 第26-40页 |
| ·规整微相分离结构的获得 | 第26-27页 |
| ·BCP 在 Si 片上的微相分离 | 第26-27页 |
| ·BCP 在 PDMS 的微相分离 | 第27页 |
| ·加热诱导皱纹 | 第27-29页 |
| ·无模板法产生无规取向皱纹 | 第27页 |
| ·模板法产生取向性皱纹 | 第27-29页 |
| ·结果与讨论 | 第29-39页 |
| ·微相分离的表征 | 第29-33页 |
| ·模板压印法所得皱纹周期、形貌的影响因素 | 第33-38页 |
| ·微相分离与皱纹结合后的原子力表征 | 第38-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 第四章 微相分离结合预应力法形成高级结构 | 第40-50页 |
| ·膜转移结合预应力法实现取向皱纹 | 第40-43页 |
| ·BCP 在牺牲层上的微相分离 | 第41页 |
| ·单一周期取向性的皱纹 | 第41页 |
| ·选区性的皱纹 | 第41-43页 |
| ·结果与讨论 | 第43-49页 |
| ·基底对微相分离结构的影响 | 第43页 |
| ·转移法所得皱纹周期形貌的影响因素 | 第43-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 第五章 微相分离结合基底图案形成高级结构 | 第50-54页 |
| ·CD、DVD 模板的复制 | 第50页 |
| ·在 PDMS 模板上旋涂成膜 | 第50-51页 |
| ·高分子膜转移至 PDMS 模板上 | 第51页 |
| ·结果与讨论 | 第51-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 第六章 结论 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-59页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60页 |
