| 中文摘要 | 第1-7页 |
| 英文摘要 | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-37页 |
| §1．1 引言 | 第9-12页 |
| §1．2 稀土铁石榴石材料 | 第12-21页 |
| §1．2．1 稀土铁石榴石的晶体结构和元素替代 | 第12-15页 |
| §1．2．2 稀土铁石榴石材料的磁光性能 | 第15-17页 |
| §1．2．3 稀土铁石榴石材料的制备方法 | 第17-21页 |
| §1．3 稀土铁石榴石材料的应用——磁光器件 | 第21-27页 |
| §1．3．1 稀土铁石榴石材料在光纤通信中的应用——磁光隔离器 | 第21-22页 |
| §1．3．2 稀土铁石榴石材料在传感测量中的应用——磁光电流／磁场传感器 | 第22-27页 |
| §1．4 磁光隔离器研究进展 | 第27-31页 |
| §1．4．1 光隔离器国内外研制的现状与发展 | 第27-28页 |
| §1．4．2 光隔离器研制中需重点解决的几个问题 | 第28-30页 |
| §1．4．3 新型宽带温度稳定光隔离器 | 第30-31页 |
| §1．5 问题的提出与本课题的目的 | 第31-33页 |
| 参考文献 | 第33-37页 |
| 第二章 液相外延方法基本原理及设备简介 | 第37-50页 |
| §2．1 液相外延生长单晶薄膜设备简介 | 第37-38页 |
| §2．1．1 液相外延薄膜生长炉 | 第37页 |
| §2．1．2 程序控制仪 | 第37-38页 |
| §2．2 助溶剂与基片的选择 | 第38-40页 |
| §2．2．1 助溶剂的选择 | 第38-40页 |
| §2．2．2 基片的选择 | 第40页 |
| §2．3 液相外延制备YIG薄膜熔料配比 | 第40-44页 |
| §2．4 YIG薄膜结构与性能测试 | 第44-47页 |
| §2．4．1 磁光旋转谱测量与磁光参数的确定 | 第44-45页 |
| §2．4．2 CGX—1型磁光法拉第旋转测试仪简介 | 第45页 |
| §2．4．3 磁光参数的确定 | 第45-46页 |
| §2．4．4 X射线粉末衍射（XRD） | 第46-47页 |
| §2．5 小结 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-50页 |
| 第三章 稀土铁石榴石薄膜的制备及结构与性能测试 | 第50-70页 |
| §3．1 引言 | 第50页 |
| §3．2 实验一：掺杂YIG膜的LPE生长与测试 | 第50-55页 |
| §3．2．1 纯YIG膜LPE生长 | 第50-52页 |
| §3．2．2 外延过程中主要控制参数 | 第52-55页 |
| §3．3 实验二：Bi：YIG薄膜LPE制备及测试 | 第55-59页 |
| §3．3．1 Bi：YIG薄膜生长及结构与性能测试 | 第56-57页 |
| §3．3．2 Bi：YIG薄膜磁光性能研究 | 第57-59页 |
| §3．4 实验三 YbIG薄膜的制备与测试 | 第59-62页 |
| §3．4．1 LPE制备YbIG薄膜 | 第59-62页 |
| §3．5 实验四 YbIG／BiYIG复合薄膜的制备与测试 | 第62-66页 |
| §3．5．1 生长YbIG／BiYIG复合薄膜的考虑 | 第62页 |
| §3．5．2 YbIG／BiYIG薄膜的制备 | 第62-65页 |
| §3．5．3 YbIG／BiYIG复合薄膜的性能复合之考虑 | 第65-66页 |
| §3．6 小结 | 第66-68页 |
| 参考文献 | 第68-70页 |
| 第四章 总结 | 第70-73页 |
