| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstracts | 第5-6页 |
| 第一章 文献综述 | 第6-18页 |
| 1．1 紫外—可见吸收光谱仪的发展简史 | 第6-7页 |
| 1．2 紫外—可见吸收光谱仪的应用范围 | 第7页 |
| 1．3 紫外—可见吸收光谱仪的分类 | 第7-8页 |
| 1．4 紫外—可见吸收光谱仪的结构 | 第8-15页 |
| 1．4．1 光源 | 第9页 |
| 1．4．2 分光器 | 第9页 |
| 1．4．3 吸收池 | 第9页 |
| 1．4．4 检测器 | 第9-13页 |
| 1．4．5 信号显示 | 第13-15页 |
| 1．5 紫外—可见吸收光谱仪的发展趋势 | 第15-16页 |
| 1．5．1 仪器组件的发展 | 第15-16页 |
| 1．5．2 仪器构型的发展 | 第16页 |
| 1．6 课题的提出 | 第16-17页 |
| 参考文献 | 第17-18页 |
| 第二章 紫外—可见吸收光谱仪的数据采集 | 第18-28页 |
| 2．1 声卡的结构与特点 | 第18-20页 |
| 2．2 声卡可以代替工业用A/D转换卡的原因 | 第20页 |
| 2．3 声卡编程环境 | 第20-27页 |
| 2．3．1 声卡的编程计算机环境 | 第20-21页 |
| 2．3．2 DOS下的声卡编程 | 第21-23页 |
| 2．3．2．1 汇编语言与高级语言的连接方式 | 第22页 |
| 2．3．2．2 连接方式的选择 | 第22-23页 |
| 2．3．3 Windows下的声卡编程 | 第23-27页 |
| 2．3．3．1 动态连接库 | 第24-25页 |
| 2．3．3．2 动态链接库链入方式的选择 | 第25-27页 |
| 参考文献 | 第27-28页 |
| 第三章 自制紫外—可见吸收光谱仪 | 第28-42页 |
| 3．1 声卡编程 | 第28-37页 |
| 3．1．1 DOS环境下的声卡编程 | 第28-35页 |
| 3．1．2 Windows环境下的声卡编程 | 第35-37页 |
| 3．2 数字锁频去噪—傅立叶变换 | 第37-40页 |
| 3．3 单色仪 | 第40-41页 |
| 参考文献 | 第41-42页 |
| 第四章 紫外—可见吸收光谱仪才有机半导体材料测试中的应用 | 第42-62页 |
| 4．1 有机半导体材料分子中电子跃迁的原理 | 第42-44页 |
| 4．2 半导体超晶格 | 第44-45页 |
| 4．3 实验原料 | 第45-49页 |
| 4．3．1 酞菁类有机半导体光电材料 | 第45-47页 |
| 4．3．2 苝酐及其衍生物 | 第47-49页 |
| 4．4 实验设备及实验设计 | 第49-51页 |
| 4．4．1 真空系统 | 第49-50页 |
| 4．4．2 实验设计 | 第50-51页 |
| 4．4．2．1 酞菁铅和酞菁氧钒层状纳米复合超晶格薄膜的制备 | 第50页 |
| 4．4．2．2 纯酞菁和苝酐层状纳米复合超晶格薄膜的制备 | 第50-51页 |
| 4．5 实验及结果的紫外—可见吸收光谱分析 | 第51-61页 |
| 4．5．1 酞菁氧钒和酞菁铅的层状纳米复合 | 第51-56页 |
| 4．5．1．1 酞菁氧钒和酞菁铅的结构研究 | 第51-53页 |
| 4．5．1．2 纳米超晶格材料的制备 | 第53页 |
| 4．5．1．3 复合膜的测试 | 第53-54页 |
| 4．5．1．4 结果与讨论 | 第54-56页 |
| 4．5．2 纯酞菁和苝酐的层状纳米复合 | 第56-61页 |
| 4．5．2．1 纯酞菁和苝酐的结构 | 第56-58页 |
| 4．5．2．2 纯酞菁和全氟取代苝酰亚胺纳米超晶格材料的制备 | 第58-59页 |
| 4．5．2．3 复合膜的测试 | 第59-60页 |
| 4．5．2．4 讨论 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-62页 |
| 第五章 本文结论 | 第62-63页 |
| 5．1 仪器方面 | 第62页 |
| 5．2 有机超晶格薄膜方面 | 第62-63页 |
| 硕士期间发表论文： | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64页 |
