| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-20页 |
| ·激光诱导前向转移技术（LIFT）的研究背景 | 第8-10页 |
| ·LIFT 的研究进展 | 第10-18页 |
| ·课题研究的意义和主要内容 | 第18-20页 |
| 第二章 纳秒脉冲激光与金属材料作用机理的研究 | 第20-29页 |
| ·激光与材料相互作用过程 | 第20-21页 |
| ·金属的烧蚀阈值 | 第21-24页 |
| ·单脉冲烧蚀阈值 | 第22页 |
| ·多脉冲烧蚀阈值 | 第22-24页 |
| ·金属的刻蚀深度 | 第24-26页 |
| ·单脉冲刻蚀深度 | 第24-25页 |
| ·多脉冲刻蚀深度 | 第25-26页 |
| ·数值计算结果 | 第26-29页 |
| ·烧蚀阈值与脉冲数目的关系 | 第27-28页 |
| ·单脉冲刻蚀深度与激光能量的计算 | 第28-29页 |
| 第三章 紫外纳秒激光诱导薄膜转移实验系统的总体设计 | 第29-43页 |
| ·紫外纳秒脉冲激光器 | 第29-31页 |
| ·光路机械结构 | 第31-33页 |
| ·三维移动平台系统 | 第33-35页 |
| ·基于 PMAC 的运动控制系统 | 第35-42页 |
| ·PMAC 运动控制卡的功能和特点 | 第36-38页 |
| ·基于 PMAC 的运动控制系统的设计 | 第38-42页 |
| ·辅助加工部分 | 第42-43页 |
| 第四章 紫外纳秒激光诱导铜薄膜前向转移实验研究 | 第43-63页 |
| ·190nm 厚铜薄膜的 ns-LIFT 实验研究 | 第43-50页 |
| ·薄膜转移阈值与转移特性 | 第43-45页 |
| ·沉积点尺寸与照射激光能量的关系 | 第45-47页 |
| ·脉冲个数对转移沉积点的影响 | 第47-49页 |
| ·基片间距离对膜转移沉积点的影响 | 第49-50页 |
| ·100nm 厚铜薄膜的 ns-LIFT 实验研究 | 第50-56页 |
| ·能量阈值及膜转移特性 | 第50-51页 |
| ·沉积点尺寸与照射激光能量的关系 | 第51-53页 |
| ·激光脉冲个数对转移沉积点的影响 | 第53-54页 |
| ·基片间距离对膜转移沉积点的影响 | 第54-56页 |
| ·22nm 厚铜薄膜的 ns-LIFT 实验研究 | 第56-59页 |
| ·能量阈值及膜转移特性 | 第56-57页 |
| ·沉积点尺寸及形貌与照射激光能量的关系 | 第57-59页 |
| ·实验结果分析 | 第59-61页 |
| ·微图形制作 | 第61-63页 |
| 第五章 总结与展望 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-69页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70页 |
