| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-10页 |
| 目录 | 第10-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-23页 |
| §1.1 衍射光学的发展概述 | 第13-14页 |
| §1.2 衍射光栅的分类及其应用 | 第14-15页 |
| §1.3 导模共振“异常” | 第15-17页 |
| §1.4 导模共振滤光片研究进展及应用 | 第17-20页 |
| §1.4.1 导模共振机理的研究进展 | 第18-19页 |
| §1.4.2 导模共振滤光片的设计及应用的研究进展 | 第19-20页 |
| §1.4.3 导模共振滤光片的制备进展 | 第20页 |
| §1.5 本文的研究内容 | 第20-23页 |
| 第二章 严格的耦合波分析方法 | 第23-42页 |
| §2.1 光栅衍射理论简介 | 第23-28页 |
| §2.1.1 光栅衍射理论——积分方法 | 第24-25页 |
| §2.1.2 光栅理论——模式方法 | 第25-26页 |
| §2.1.3 光栅理论——耦合波方法 | 第26-28页 |
| §2.2 矩形光栅的严格耦合波分析方法 | 第28-40页 |
| §2.2.1 矩形槽光栅中 TE 偏振波入射时的衍射 | 第29-34页 |
| §2.2.2 矩形槽光栅中 TM 偏振波入射时的衍射 | 第34-36页 |
| §2.2.3 入射平面与光栅槽的夹角为任意值时的衍射 | 第36-40页 |
| §2.3 本章小结 | 第40-42页 |
| 第三章 导模共振亚波长滤光器件的特性分析 | 第42-62页 |
| §3.1 导模共振效应 | 第42-44页 |
| §3.2 等效波导模型 | 第44-47页 |
| §3.2.1 单层周期波导 | 第44-45页 |
| §3.2.2 多层周期波导 | 第45-46页 |
| §3.2.3 导模共振位置 | 第46-47页 |
| §3.3 波导结构参数的变化对导模共振特性的影响 | 第47-52页 |
| §3.3.1 光栅周期对导模共振现象的影响 | 第47-48页 |
| §3.3.2 入射角对导模共振现象的影响 | 第48-49页 |
| §3.3.3 调制系数对导模共振现象的影响 | 第49页 |
| §3.3.4 填充系数对导模共振现象的影响 | 第49-50页 |
| §3.3.5 入射模式对导模共振现象的影响 | 第50-51页 |
| §3.3.6 光栅槽深及薄膜厚度对导模共振现象的影响 | 第51-52页 |
| §3.4 双层导模共振滤光片制作过程中的刻蚀误差及其调整方法 | 第52-57页 |
| §3.4.1 双层导模共振滤光片制作过程中的刻蚀误差分析 | 第53-55页 |
| §3.4.2 双层导模共振滤光片制作过程中刻蚀误差的调整技术 | 第55-57页 |
| §3.5 单层导模共振滤光片的电场分析 | 第57-59页 |
| §3.6 导模共振滤光片结构的设计方法 | 第59-61页 |
| §3.7 本章小结 | 第61-62页 |
| 第四章 可调谐导模共振滤光片 | 第62-79页 |
| §4.1 可调谐导模共振滤光片的研究现状及应用 | 第62页 |
| §4.2 方位角调谐导模共振滤光片 | 第62-66页 |
| §4.2.1 方位角对导模共振效应的影响分析 | 第62-63页 |
| §4.2.2 方位角调谐的导模共振滤光片设计 | 第63-66页 |
| §4.3 电控聚合物分散液晶材料折射率可调谐导模共振滤光片 | 第66-73页 |
| §4.3.1 聚合物分散液晶材料的特性介绍 | 第67-68页 |
| §4.3.2 电控聚合物分散液晶的折射率研究 | 第68-70页 |
| §4.3.3 电控 PDLC 折射率调谐导模共振滤光片的设计 | 第70-73页 |
| §4.4 双通道光谱能量调谐导模共振滤光片的设计 | 第73-78页 |
| §4.5 本章小结 | 第78-79页 |
| 第五章 导模共振滤光片的设计及实验制备 | 第79-102页 |
| §5.1 微波波段导模共振超材料的设计 | 第79-81页 |
| §5.1.1 超材料的研究现状 | 第79-81页 |
| §5.1.2 微波波段导模共振超材料的设计及应用 | 第81页 |
| §5.2 亚波长红外光波段导模共振滤光片的设计 | 第81-82页 |
| §5.3 亚波长可见光波段导模共振滤光片的制备 | 第82-99页 |
| §5.3.1 基片处理 | 第83-85页 |
| §5.3.2 镀膜及膜厚测试 | 第85-86页 |
| §5.3.3 光刻胶特性及匀胶工艺的研究 | 第86-89页 |
| §5.3.4 前烘 | 第89-90页 |
| §5.3.5 全息曝光光路及周期、强度的控制与分析 | 第90-98页 |
| §5.3.6 显影及后烘 | 第98页 |
| §5.3.7 离子束刻蚀工艺研究 | 第98-99页 |
| §5.4 亚波长导模共振滤光片的测试 | 第99-101页 |
| §5.5 本章小结 | 第101-102页 |
| 第六章 导模共振亚波长器件的应用研究 | 第102-111页 |
| §6.1 引言 | 第102页 |
| §6.2 理论计算 | 第102-108页 |
| §6.3 误差分析 | 第108-110页 |
| §6.4 本章小节 | 第110-111页 |
| 第七章 总结与展望 | 第111-113页 |
| 参考文献 | 第113-127页 |
| 在读期间公开发表的论文和承担科研项目及取得成果 | 第127-131页 |
| 致谢 | 第131页 |
