衍射光学元件模压制造技术研究
| 摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-6页 |
| 1 绪论 | 第6-16页 |
| ·衍射光学元件 | 第6-9页 |
| ·简介 | 第6页 |
| ·衍射光学元件的特点 | 第6-7页 |
| ·衍射光学元件应用 | 第7-9页 |
| ·加工技术简介 | 第9-11页 |
| ·发展阶段 | 第9-10页 |
| ·主要制造技术 | 第10-11页 |
| ·研究的主要内容 | 第11-13页 |
| ·国内外研究现状 | 第13-15页 |
| ·国外研究现状 | 第13-14页 |
| ·国内研究现状 | 第14-15页 |
| ·研究目的与意义 | 第15-16页 |
| 2 模压前期准备 | 第16-24页 |
| ·母模设计 | 第16-17页 |
| ·SPDT制作母模 | 第17-21页 |
| ·单点金刚石车削技术 | 第18-20页 |
| ·模具加工及检测 | 第20-21页 |
| ·模压胶 | 第21-24页 |
| ·PMMA | 第21-22页 |
| ·SU8胶 | 第22-24页 |
| 3 模压制造技术 | 第24-34页 |
| ·PMMA成型机理 | 第24-26页 |
| ·模压实验 | 第26-30页 |
| ·硅片悬胶 | 第27-28页 |
| ·模压控制 | 第28-30页 |
| ·模压缺陷分析 | 第30-32页 |
| ·深度不够 | 第30-31页 |
| ·图形错位 | 第31页 |
| ·表面形貌不平滑 | 第31-32页 |
| ·脱模粘连 | 第32页 |
| ·总结 | 第32-34页 |
| 4 等离子体刻蚀 | 第34-44页 |
| ·等离子体 | 第34-35页 |
| ·等离子体刻蚀 | 第35-39页 |
| ·刻蚀设备 | 第35-36页 |
| ·反应原理 | 第36-38页 |
| ·刻蚀常见问题 | 第38-39页 |
| ·刻蚀试验及结果分析 | 第39-43页 |
| ·硅和PMMA刻蚀速率的测量 | 第39-40页 |
| ·刻蚀数据及结果分析 | 第40-43页 |
| ·总结 | 第43-44页 |
| 5 总结与展望 | 第44-46页 |
| 参考文献 | 第46-50页 |
| 致谢 | 第50-52页 |
