氧化钒薄膜微结构表征与调控
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-17页 |
| ·氧化钒的研究概况 | 第11-12页 |
| ·氧化钒薄膜的应用 | 第12-13页 |
| ·抗激光辐射 | 第12页 |
| ·存储介质材料 | 第12页 |
| ·微测辐射热计 | 第12-13页 |
| ·光电开关 | 第13页 |
| ·气敏传感器 | 第13页 |
| ·国内外技术进展 | 第13-15页 |
| ·国外技术进展 | 第13-14页 |
| ·国内技术进展 | 第14-15页 |
| ·论文研究主要内容及意义 | 第15-16页 |
| ·本文的主要内容 | 第15页 |
| ·论文研究意义 | 第15-16页 |
| ·小结 | 第16-17页 |
| 第二章 氧化钒性质及氧化钒薄膜制备和分析方法概述 | 第17-28页 |
| ·氧化钒的基本性质及相变机理 | 第17-22页 |
| ·钒- 氧化合物的组成及性质 | 第17-20页 |
| ·二氧化钒晶体结构及相变机理 | 第20-21页 |
| ·掺杂改性机理 | 第21-22页 |
| ·氧化钒薄膜几种制备方法的介绍和比较 | 第22-24页 |
| ·溶胶凝胶法 | 第22页 |
| ·真空蒸镀方法 | 第22-23页 |
| ·脉冲激光沉积工艺 | 第23页 |
| ·溅射镀膜法 | 第23-24页 |
| ·氧化钒薄膜的表征方法 | 第24-27页 |
| ·扫描电子显微镜 (SEM) | 第24-25页 |
| ·X 射线衍射(XRD) | 第25-26页 |
| ·X 射线光电子能谱分析 | 第26页 |
| ·交流阻抗谱 | 第26-27页 |
| ·小结 | 第27-28页 |
| 第三章 氧化钒薄膜的反应测控溅射制备 | 第28-37页 |
| ·反应磁控溅射 | 第28-32页 |
| ·溅射机理 | 第28-30页 |
| ·磁控溅射 | 第30-32页 |
| ·实验设备及实验靶材 | 第32-33页 |
| ·实验设备 | 第32-33页 |
| ·实验靶材的设计 | 第33页 |
| ·衬底材料及其表面处理 | 第33-34页 |
| ·实验方案设计 | 第34-36页 |
| ·氧化钒实验方案 | 第34-35页 |
| ·掺杂氧化钒实验方案 | 第35-36页 |
| ·小结 | 第36-37页 |
| 第四章 氧化钒薄膜的制备、微结构及性能分析 | 第37-50页 |
| ·金属钒薄膜退火处理制备氧化钒薄膜 | 第37-42页 |
| ·金属钒薄膜的制备及分析 | 第37-39页 |
| ·金属钒薄膜的高温退火处理 | 第39-41页 |
| ·X 射线衍射（XRD）分析 | 第41-42页 |
| ·反应磁控溅射制备氧化钒薄膜及其性能分析 | 第42-48页 |
| ·制备氧化钒薄膜的工艺条件 | 第42-43页 |
| ·氧化钒薄膜的交流阻抗分析 | 第43-45页 |
| ·氧化钒薄膜的扫描电镜（SEM）分析 | 第45-46页 |
| ·氧化钒薄膜的电学性能分析 | 第46-48页 |
| ·氧化钒薄膜的 XRD 分析 | 第48页 |
| ·小结 | 第48-50页 |
| 第五章 掺杂氧化钒薄膜的制备、微结构及性能分析 | 第50-63页 |
| ·掺钇氧化钒薄膜的制备与性能分析 | 第50-55页 |
| ·制备掺钇氧化钒薄膜的工艺条件 | 第50-51页 |
| ·掺钇氧化钒薄膜电学性能分析 | 第51-52页 |
| ·掺钇氧化钒薄膜的 XPS 分析 | 第52-55页 |
| ·掺 Ti 氧化钒薄膜的制备与性能分析 | 第55-60页 |
| ·制备掺 Ti 氧化钒薄膜的工艺条件 | 第55页 |
| ·掺 Ti 氧化钒薄膜的扫描电镜（SEM）分析 | 第55-57页 |
| ·掺 Ti 氧化钒薄膜的电学性能分析 | 第57-60页 |
| ·掺 Ti 氧化钒薄膜的 XRD 分析 | 第60页 |
| ·W/Ti 共掺杂氧化钒薄膜的制备与性能分析 | 第60-62页 |
| ·小结 | 第62-63页 |
| 第六章 结论与展望 | 第63-65页 |
| ·结论 | 第63-64页 |
| ·展望 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-70页 |
