蒸镀薄膜的电子衍射研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 1 绪论 | 第8-12页 |
| ·电子衍射的发现 | 第8-10页 |
| ·电子衍射在国内外研究现状 | 第10-11页 |
| ·课题研究的内容 | 第11页 |
| ·课题研究的意义 | 第11-12页 |
| 2 本课题的物理学背景 | 第12-24页 |
| ·电子的波粒二象性 | 第12-13页 |
| ·晶体衍射实验的三种辐射源 | 第13-14页 |
| ·X射线 | 第13页 |
| ·电予束 | 第13页 |
| ·中子束 | 第13-14页 |
| ·晶体的正射线衍射理论 | 第14-16页 |
| ·布拉格反射 | 第14-15页 |
| ·劳厄方程 | 第15-16页 |
| ·电子衍射图像与晶体结构 | 第16-18页 |
| ·晶体衍射的实验方法 | 第18-21页 |
| ·劳厄法 | 第19-20页 |
| ·旋转晶体法 | 第20-21页 |
| ·粉末法 | 第21页 |
| ·电子衍射图像的指数化 | 第21-24页 |
| 3 真空蒸镀 | 第24-29页 |
| ·真空蒸镀法及其基本原理 | 第24-25页 |
| ·蒸发源的类型 | 第25-27页 |
| ·影响薄膜质量的因素 | 第27页 |
| ·蒸发沉积薄膜的纯度 | 第27页 |
| ·真空蒸镀特点 | 第27-29页 |
| 4 椭偏法测量薄膜 | 第29-33页 |
| 5 电子衍射图像分析晶体结构 | 第33-53页 |
| ·实验仪器 | 第33-36页 |
| ·椭圆偏振仪 | 第33-34页 |
| ·电子衍射仪 | 第34-36页 |
| ·电子衍射实验步骤 | 第36-38页 |
| ·底膜对电子衍射图像的影响 | 第38-43页 |
| ·蒸镀参数对电子衍射的影响 | 第43-53页 |
| ·利用AutoCAD处理实验数据 | 第44-45页 |
| ·加速高压对半径R的影响 | 第45-47页 |
| ·灯丝电压对清晰的影响 | 第47-48页 |
| ·沉积时间对Δλ、Δa的影响 | 第48-52页 |
| ·最佳工艺参数 | 第52-53页 |
| 6 结论 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-57页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文、 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58-62页 |
| 附录 电子衍射花样 | 第62页 |
