| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-17页 |
| ·黑硅的发现及意义 | 第9-12页 |
| ·研究现状 | 第12-15页 |
| ·本论文的主要工作 | 第15-17页 |
| 第二章 飞秒激光硫掺杂黑硅的制备与特性分析 | 第17-26页 |
| ·飞秒激光加工黑硅实验系统 | 第17-18页 |
| ·飞秒激光加工黑硅制备过程 | 第18-20页 |
| ·SF_6气氛下飞秒激光加工黑硅的特性分析 | 第20-26页 |
| 第三章 不同种类混合气体中加工制备黑硅 | 第26-33页 |
| ·在 N_2和 SF_6混合气体中加工制备黑硅 | 第26-28页 |
| ·在 O_2和 SF_6混合气体中加工制备黑硅 | 第28-33页 |
| 第四章 不同比例混合气体中加工制备黑硅 | 第33-40页 |
| ·在不同摩尔比例 N_2和 SF_6混合气体中加工制备黑硅 | 第33-36页 |
| ·检验共掺方法对不同电阻率硅片衬底的普遍适用性 | 第36-40页 |
| 第五章 黑硅光电探测器制作及光电响应特性 | 第40-46页 |
| ·光电探测器的基本工作原理 | 第40-41页 |
| ·黑硅光电探测器的制作 | 第41-43页 |
| ·黑硅光电探测器的光电响应特性 | 第43-46页 |
| 结论 | 第46-48页 |
| 参考文献 | 第48-52页 |
| 作者简介及在学期间所取得的科研成果 | 第52-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |