强磁场下溶胶—凝胶法制备氧化锌薄膜工艺的研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-24页 |
| ·概述 | 第11-12页 |
| ·ZnO 材料的晶体结构 | 第12-13页 |
| ·ZnO 薄膜的性质及应用 | 第13-15页 |
| ·ZnO 薄膜的研究现状 | 第15-17页 |
| ·ZnO 薄膜的制备方法 | 第15-16页 |
| ·溶胶-凝胶法制备纳米 ZnO 薄膜 | 第16-17页 |
| ·强磁场的作用及应用 | 第17-22页 |
| ·强磁场的作用机理 | 第17-18页 |
| ·强磁场在材料制备过程中的应用 | 第18-22页 |
| ·本文研究的目的、意义与内容 | 第22-24页 |
| ·研究的目的、意义 | 第22-23页 |
| ·研究内容 | 第23-24页 |
| 第2章 实验过程及方法 | 第24-32页 |
| ·实验设备与所用药品 | 第24-25页 |
| ·实验设备 | 第24-25页 |
| ·实验所用药品 | 第25页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第25-29页 |
| ·ZnO 溶胶的制备方法 | 第25-26页 |
| ·薄膜合成工艺 | 第26页 |
| ·ZnO 薄膜常规制备工艺 | 第26-27页 |
| ·磁场下 ZnO 薄膜制备工艺 | 第27-29页 |
| ·表征方法 | 第29-32页 |
| ·X 射线衍射分析（XRD） | 第29-30页 |
| ·扫描电镜分析（SEM） | 第30页 |
| ·紫外-可见透射光谱分析 | 第30-32页 |
| 第3章 实验结果分析与讨论 | 第32-65页 |
| ·无磁场条件下 ZnO 薄膜制备工艺及影响因素 | 第32-48页 |
| ·ZnO 薄膜的特性 | 第32-34页 |
| ·溶胶浓度的影响 | 第34-36页 |
| ·陈化时间的影响 | 第36-37页 |
| ·提拉速度的影响 | 第37-39页 |
| ·涂膜层数的影响 | 第39-41页 |
| ·煅烧温度的影响 | 第41-44页 |
| ·煅烧保温时间的影响 | 第44-46页 |
| ·煅烧方式的影响 | 第46-47页 |
| ·煅烧气氛的影响 | 第47-48页 |
| ·磁场对 ZnO 薄膜质量的影响 | 第48-54页 |
| ·磁场强度和磁场方向的影响 | 第49-54页 |
| ·磁场中煅烧工艺对 ZnO 薄膜质量的影响 | 第54-65页 |
| ·煅烧温度的影响 | 第54-58页 |
| ·煅烧时间的影响 | 第58-60页 |
| ·煅烧方式的影响 | 第60-65页 |
| 结论 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-74页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文和获得的科研成果 | 第74-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |
