Al/CuO多层含能桥膜的制备与电爆特性研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 1 绪论 | 第7-10页 |
| ·含能桥膜国内外研究状况 | 第7-9页 |
| ·国外研究状况 | 第7-8页 |
| ·国内研究状况 | 第8-9页 |
| ·研究目标和研究内容 | 第9-10页 |
| 2 Al-CuO复合膜的制备技术 | 第10-20页 |
| ·复合膜制备原理 | 第10-12页 |
| ·溅射法基本原理 | 第10页 |
| ·射频磁控溅射原理 | 第10-11页 |
| ·溅射的机理和过程 | 第11-12页 |
| ·Al-CuO制备工艺条件 | 第12-18页 |
| ·实验装置与材料 | 第12-14页 |
| ·实验样品制备与工艺流程 | 第14-16页 |
| ·制备条件与薄膜质量分析 | 第16-18页 |
| ·小结 | 第18-20页 |
| 3 Al-CuO复合膜的表征 | 第20-39页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM)分析 | 第20-24页 |
| ·Al、CuO单层薄膜分析 | 第20-21页 |
| ·多层薄膜点火桥表面分析 | 第21-22页 |
| ·多层薄膜点火桥断面分析 | 第22-24页 |
| ·X射线衍射分析(XRD) | 第24-25页 |
| ·原子力显微镜分析(AFM) | 第25-29页 |
| ·Al、CuO单层薄膜 | 第26-27页 |
| ·多层含能桥膜表面分析 | 第27-29页 |
| ·电子能谱分析(EDS) | 第29-33页 |
| ·单层Al、CuO薄膜EDS分析 | 第29-31页 |
| ·多层薄膜EDS分析 | 第31-33页 |
| ·化学反应性分析 | 第33-38页 |
| ·热分析原理 | 第33-34页 |
| ·热分析样品的制备工艺 | 第34-35页 |
| ·放热特性曲线 | 第35-38页 |
| ·小结 | 第38-39页 |
| 4 Al-CuO的电爆特性分析 | 第39-52页 |
| ·电爆特性测试方法 | 第39-41页 |
| ·伏安特性曲线测试方法 | 第39页 |
| ·等离子体温度曲线测试方法 | 第39-41页 |
| ·电爆特性测试 | 第41-51页 |
| ·不同层数的桥膜电爆性能 | 第41-48页 |
| ·不同长宽比的桥膜电爆性能 | 第48-49页 |
| ·电压对复合桥膜电爆性能的影响 | 第49-51页 |
| ·小结 | 第51-52页 |
| 5 结论 | 第52-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-56页 |
