| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-16页 |
| ·引言 | 第10-12页 |
| ·常用材料表面分析方法 | 第10-11页 |
| ·正电子技术在材料表面分析中的应用 | 第11-12页 |
| ·正电子及慢正电子 | 第12-13页 |
| ·正电子和正电子湮没 | 第12-13页 |
| ·正电子的慢化 | 第13页 |
| ·慢正电子束技术 | 第13-16页 |
| ·正电子湮没的多普勒技术(DBAR) | 第14-15页 |
| ·脉冲正电子束寿命谱(PPLTS) | 第15-16页 |
| 第2章 WOx 气敏材料的正电子研究 | 第16-30页 |
| ·WOx 气敏材料的性质及其应用 | 第16-18页 |
| ·W03 及金属W 的性质 | 第16-17页 |
| ·氧化钨还原体系 | 第17-18页 |
| ·气敏探测机理 | 第18页 |
| ·氧化钨纳米结构薄膜的制备和实验方案 | 第18-20页 |
| ·热丝金属氧化物方法的制备过程 | 第18-20页 |
| ·实验方案 | 第20页 |
| ·结果与讨论 | 第20-30页 |
| ·第一组(热丝温度不同) | 第20-27页 |
| ·第二组(氧含量OGC 不同) | 第27-30页 |
| 第3章 ZnO/Metal/ZnO 金属介质多层膜的正电子研究 | 第30-35页 |
| ·ZnO/Metal/ZnO 金属介质多层膜的发展和应用前景 | 第30页 |
| ·ZnO/Metal/ZnO 金属介质多层膜的制备和实验方案 | 第30-31页 |
| ·多层膜的制备过程 | 第30-31页 |
| ·实验方案 | 第31页 |
| ·结果与讨论 | 第31-35页 |
| 第4章 ZnO/Metal/ZnO 透明导电膜及其减反射膜的理论设计 | 第35-55页 |
| ·光学薄膜设计理论简介 | 第35-38页 |
| ·减反射膜 | 第38-44页 |
| ·单层减反射膜 | 第39-41页 |
| ·双层减反射膜 | 第41-43页 |
| ·多层减反射膜 | 第43-44页 |
| ·偏振效应和解决方法 | 第44-46页 |
| ·膜系设计方法 | 第46-47页 |
| ·设计过程及结果 | 第47-55页 |
| ·0°入射条件下的膜系 | 第47-51页 |
| ·70°入射条件下的膜系 | 第51-55页 |
| 参考文献 | 第55-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第60页 |
