| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-16页 |
| ·研究背景 | 第8-9页 |
| ·辉光放电光谱仪等离子体激发源 | 第9-15页 |
| ·辉光放电基本原理 | 第9-10页 |
| ·辉光放电溅射激发原理 | 第10-11页 |
| ·辉光放电发射光谱仪(GD-OES)激发源的种类 | 第11-15页 |
| ·本论文研究的主要内容 | 第15-16页 |
| 第2章 增强型辉光放电激发源综述 | 第16-23页 |
| ·二次放电增强辉光放电 | 第16-17页 |
| ·磁场增强辉光放电 | 第17-18页 |
| ·微波增强辉光放电 | 第18-19页 |
| ·气体喷射增强辉光放电 | 第19-20页 |
| ·自偏压偏置电流增强RF辉光放电 | 第20-21页 |
| ·脉冲增强辉光放电 | 第21-22页 |
| ·射频增强辉光放电 | 第22-23页 |
| 第3章 RF GD-ICP联用增强型激发源的实验研究 | 第23-48页 |
| ·RF GD-ICP联用增强型激发源实验装置 | 第23-28页 |
| ·射频驱动阻抗匹配网络 | 第23-24页 |
| ·GD-ICP联用增强型激发源示意图 | 第24-25页 |
| ·GD-ICP联用增强型激发源结构图 | 第25-26页 |
| ·光检测系统 | 第26-27页 |
| ·MetalLab光谱分析应用软件 | 第27-28页 |
| ·RF GD-ICP联用增强型激发源实验方法 | 第28-31页 |
| ·描迹法(Profile) | 第28-30页 |
| ·建立样品标准工作曲线法(Calibration) | 第30-31页 |
| ·RF GD-ICP联用增强型激发源实验结果、讨论及分析 | 第31-48页 |
| ·探索性实验 | 第31-33页 |
| ·描迹法(Profile)考察增强的实验结果及分析 | 第33-40页 |
| ·建立样品校准工作曲线法(Calibration)考察增强的实验结果及分析 | 第40-48页 |
| 第4章 结论与展望 | 第48-51页 |
| ·结论 | 第48-49页 |
| ·有待进一步研究的问题 | 第49-51页 |
| 参考文献 | 第51-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |
| 研究生期间发表的论文 | 第55页 |
