摘要 | 第1-7页 |
ABSTRACT | 第7-12页 |
第1章 同步辐射光学工程综述 | 第12-38页 |
·引言 | 第12-13页 |
·同步辐射光源 | 第13-17页 |
·同步辐射光源概述 | 第13-15页 |
·三种同步辐射发射 | 第15-17页 |
·同步辐射成像光学 | 第17-25页 |
·反射镜成像 | 第17-23页 |
·透射折射成像 | 第23-25页 |
·同步辐射单色仪 | 第25-31页 |
·晶体单色仪 | 第25-27页 |
·光栅单色仪 | 第27-29页 |
·多层膜单色仪 | 第29-31页 |
·同步辐射工程常用软件介绍 | 第31-36页 |
·模拟追迹软件XOP-Shadow VUI | 第31-32页 |
·有限元分析软件Ansys | 第32页 |
·虚拟控制仪器的图形化编程语言 Lab VIEW | 第32-33页 |
·理论分析数学编程软件Mathematica、Maple和Matlab | 第33-35页 |
·较低级的纯语言C++和Java | 第35-36页 |
·同步辐射光学工程的科研方法 | 第36-38页 |
·数学模型的理论计算 | 第36页 |
·图解法 | 第36-37页 |
·计算机数值模拟计算 | 第37页 |
·实践检验 | 第37-38页 |
第2章 同步辐射大分子晶体学光束线的性能优化 | 第38-83页 |
·引言 | 第38-40页 |
·束线性能与数据质量的关系 | 第40-44页 |
·大分子实验对稳定性的要求 | 第44-46页 |
·生物大分子晶体学光束线稳定性分析 | 第46-47页 |
·实验稳定性监控系统的建立及应用 | 第47-74页 |
·稳定监控系统 | 第47-49页 |
·同步辐射光束位置探测器XBPM的研发与应用 | 第49-63页 |
·同步辐射电离室光强探测器的研发与应用 | 第63-74页 |
·单色器第一晶体的冷却优化 | 第74-79页 |
·背景介绍 | 第74-75页 |
·Ansys热应力分析计算 | 第75-77页 |
·单色器第一晶体加工 | 第77-79页 |
·1W2B兼用模式光源计算 | 第79-83页 |
第3章 BSRF 1W2A小角散射光束线性能优化 | 第83-98页 |
·引言 | 第83-84页 |
·BSRF小角散射光束线简介 | 第84-86页 |
·弯晶单色器性能改进 | 第86-91页 |
·弯晶单色器热稳定性改进 | 第86-88页 |
·压弯机构分析 | 第88-91页 |
·双狭缝系统分析 | 第91-98页 |
·相空间方法 | 第91-93页 |
·双狭缝系统相空间图解 | 第93-95页 |
·宽度的统计算法 | 第95-96页 |
·相空间方法结合统计算法求解双狭缝 | 第96-97页 |
·Mathematica模拟追迹 | 第97-98页 |
第4章 同步辐射光束线微聚焦 | 第98-129页 |
·引言 | 第98-99页 |
·微聚焦装置概述 | 第99-101页 |
·K-B镜微聚焦设计与优化 | 第101-125页 |
·梁压弯理论 | 第101-102页 |
·梁压弯面型解析解 | 第102-103页 |
·理想面型需求 | 第103-104页 |
·K-B镜微聚焦系统对聚焦条件的建议 | 第104-105页 |
·压弯参数计算 | 第105-106页 |
·全局面型优化法 | 第106-109页 |
·优化参数确定 | 第109页 |
·表面加工工艺要求 | 第109-111页 |
·像差计算 | 第111-115页 |
·压弯理论的力学有限元分析验证 | 第115-116页 |
·像差计算的追迹验证 | 第116-123页 |
·真实光源压弯面型镜追迹计算 | 第123页 |
·压弯轴位的确定 | 第123-125页 |
·整体毛细管X光透镜微聚焦实验与分析 | 第125-129页 |
·测试意义 | 第125页 |
·测试方案 | 第125-126页 |
·实验结果 | 第126-129页 |
第5章 光源及束线计算程序的编制及应用 | 第129-140页 |
·同步辐射功率密度的计算程序 | 第129-134页 |
·反射镜面型误差对像斑影响计算程序 | 第134-137页 |
·谱亮度计算程序 | 第137-140页 |
第6章 同步辐射光学元件的面型测试与分析 | 第140-146页 |
·引言 | 第140-141页 |
·牛顿干涉环法 | 第141-142页 |
·长程面型仪 | 第142-144页 |
·激光干涉仪用于面型测量 | 第144-146页 |
参考文献 | 第146-147页 |
攻读学位期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第147-148页 |
致谢 | 第148页 |