直流热阴极PCVD方法制备金刚石膜及其微结构研究
提要 | 第1-6页 |
第一章 绪论 | 第6-17页 |
·引言 | 第6页 |
·金刚石的晶体结构 | 第6-7页 |
·金刚石的性质及应用 | 第7-11页 |
·人造金刚石的进展 | 第11-13页 |
·化学气相沉积金刚石膜发展的历史回顾 | 第13-14页 |
·气相合成金刚石膜的生长机理 | 第14-16页 |
·论文的选题及主要研究内容 | 第16-17页 |
第二章 金刚石膜的制备与表征 | 第17-31页 |
·制备金刚石膜方法简介 | 第17-19页 |
·直流热阴极 PCVD 方法的装置及基本工艺 | 第19-23页 |
·直流辉光放电等离子体的特性 | 第23-28页 |
·CVD 金刚石的表征 | 第28-30页 |
·本章小结 | 第30-31页 |
第三章 金刚石膜的微观结构研究 | 第31-42页 |
·金刚石膜的表面形貌 | 第31-36页 |
·金刚石膜截面特性及其微结构研究 | 第36-41页 |
·本章小结 | 第41-42页 |
第四章 金刚石膜的品质及性能研究 | 第42-61页 |
·金刚石膜拉曼光谱的研究 | 第42-46页 |
·金刚石膜的 X 射线衍射 | 第46-47页 |
·金刚石膜热导率研究 | 第47-54页 |
·金刚石膜耐磨性能的研究 | 第54-56页 |
·金刚石膜的微裂纹、暴裂与应力 | 第56-60页 |
·小结 | 第60-61页 |
第五章 全文总结 | 第61-63页 |
参考文献 | 第63-67页 |
致谢 | 第67-68页 |
摘要 | 第68-71页 |
ABSTRACT | 第71-73页 |