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直流热阴极PCVD方法制备金刚石膜及其微结构研究

提要第1-6页
第一章 绪论第6-17页
   ·引言第6页
   ·金刚石的晶体结构第6-7页
   ·金刚石的性质及应用第7-11页
   ·人造金刚石的进展第11-13页
   ·化学气相沉积金刚石膜发展的历史回顾第13-14页
   ·气相合成金刚石膜的生长机理第14-16页
   ·论文的选题及主要研究内容第16-17页
第二章 金刚石膜的制备与表征第17-31页
   ·制备金刚石膜方法简介第17-19页
   ·直流热阴极 PCVD 方法的装置及基本工艺第19-23页
   ·直流辉光放电等离子体的特性第23-28页
   ·CVD 金刚石的表征第28-30页
   ·本章小结第30-31页
第三章 金刚石膜的微观结构研究第31-42页
   ·金刚石膜的表面形貌第31-36页
   ·金刚石膜截面特性及其微结构研究第36-41页
   ·本章小结第41-42页
第四章 金刚石膜的品质及性能研究第42-61页
   ·金刚石膜拉曼光谱的研究第42-46页
   ·金刚石膜的 X 射线衍射第46-47页
   ·金刚石膜热导率研究第47-54页
   ·金刚石膜耐磨性能的研究第54-56页
   ·金刚石膜的微裂纹、暴裂与应力第56-60页
   ·小结第60-61页
第五章 全文总结第61-63页
参考文献第63-67页
致谢第67-68页
摘要第68-71页
ABSTRACT第71-73页

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