等离子体弧清洗装置的研制
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-18页 |
| ·课题的目的和意义 | 第9-10页 |
| ·清洗技术的现状分析 | 第10-12页 |
| ·传统清洗方法 | 第10-12页 |
| ·等离子体弧清洗技术 | 第12页 |
| ·等离子体弧清洗技术的发展 | 第12-17页 |
| ·等离子体弧清洗技术的发展及应用 | 第12-17页 |
| ·等离子体弧清洗设备的发展及研究现状 | 第17页 |
| ·本课题研究的目的和内容 | 第17-18页 |
| 2 等离子体弧清洗技术与装置 | 第18-37页 |
| ·等离子体弧简介 | 第18-27页 |
| ·等离子体弧 | 第18-21页 |
| ·等离子体弧的基本形式 | 第21-22页 |
| ·等离子体弧的伏安特性 | 第22-26页 |
| ·等离子体弧的特点 | 第26-27页 |
| ·等离子体弧清洗技术的机理探讨 | 第27-31页 |
| ·等离子体弧清洗装置 | 第31-35页 |
| ·等离子体弧清洗装置的组成及要求 | 第31-32页 |
| ·等离子体弧清洗主电源 | 第32-34页 |
| ·等离子体弧清洗控制系统及其它组成部分 | 第34-35页 |
| ·本章小结 | 第35-37页 |
| 3 等离子体弧清洗装置控制系统的设计 | 第37-54页 |
| ·控制系统核心元件的选择 | 第37-38页 |
| ·PLC的简介 | 第38-43页 |
| ·PLC的发展状况 | 第38-39页 |
| ·PLC的特点 | 第39-41页 |
| ·PLC的工作过程 | 第41页 |
| ·PLC的分类 | 第41-43页 |
| ·PLC类型的选择 | 第43-44页 |
| ·等离子体弧清洗流程的分析 | 第44-45页 |
| ·控制系统的优化设计 | 第45-51页 |
| ·PLC的输入/输出分配 | 第45-46页 |
| ·清洗装置的PLC控制系统 | 第46-47页 |
| ·供气系统和水冷系统 | 第47-49页 |
| ·高频引弧电路和电弧检测电路 | 第49-51页 |
| ·PLC的抗干扰措施 | 第51-52页 |
| ·控制系统中元件和参数的确定 | 第52-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 4 等离子体弧清洗控制程序的设计 | 第54-65页 |
| ·S7-200 PLC程序的软件和结构 | 第54-59页 |
| ·编程语言 | 第54-55页 |
| ·PLC的编程软件 | 第55-57页 |
| ·程序结构的安排 | 第57-58页 |
| ·流程图设计 | 第58-59页 |
| ·设备控制程序的编写 | 第59页 |
| ·控制程序的仿真调试 | 第59-64页 |
| ·本章小结 | 第64-65页 |
| 结论 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-69页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
