第一章 绪论 | 第1-25页 |
§1.1 碳纳米管的结构 | 第10-11页 |
§1.2 碳纳米管的制备和纯化 | 第11页 |
§1.3 碳纳米管的官能化 | 第11-14页 |
§1.4 碳纳米管修饰电极 | 第14-18页 |
·碳纳米管修饰电极的种类 | 第14-16页 |
·碳纳米管糊电极 | 第14页 |
·碳纳米管膜修饰电极 | 第14-15页 |
·单根碳纳米管电极 | 第15-16页 |
·有序碳纳米管电极 | 第16页 |
·碳纳米管修饰电极的表征 | 第16-17页 |
·碳纳米管修饰电极的电分析应用 | 第17-18页 |
§1.5 壳聚糖 | 第18-19页 |
§1.6 论文选题思想及主要内容 | 第19-20页 |
参考文献 | 第20-25页 |
第二章 多壁碳纳米管—壳聚糖修饰电极上溴离子的电化学行为及其分析应用 | 第25-37页 |
§2.1 引言 | 第25页 |
§2.2 实验部分 | 第25-26页 |
·仪器和试剂 | 第25-26页 |
·MWNTs-chitosan修饰电极的制备 | 第26页 |
·分析步骤 | 第26页 |
§2.3 多壁碳纳米管-壳聚糖膜的表征 | 第26-28页 |
·扫描电镜图(SEM) | 第27页 |
·电活性基团的表征 | 第27-28页 |
·循环伏安行为 | 第28页 |
§2.4 MWNTs-chitosan修饰电极的应用—高灵敏测定Br~- | 第28-35页 |
·Br~-的电化学行为 | 第28-29页 |
·循环伏安行为和动力学参数测量 | 第29-31页 |
·Br~-在MC/GC上的电化学反应机理 | 第31-32页 |
·修饰量的影响 | 第32页 |
·支持电解质和pH对峰电流的影响 | 第32-33页 |
·富集电位和富集时间的影响 | 第33-34页 |
·线性范围、检测限及重现性 | 第34-35页 |
·共存离子的影响 | 第35页 |
·样品测定 | 第35页 |
§2.5 结论 | 第35-36页 |
参考文献 | 第36-37页 |
第三章 多壁碳纳米管—壳聚糖修饰电极上碘离子的电化学行为及其分析应用 | 第37-46页 |
§3.1 引言 | 第37页 |
§3.2 实验部分 | 第37-38页 |
·仪器和试剂 | 第37-38页 |
·MWNTs-chitosan修饰电极的制备 | 第38页 |
·分析步骤 | 第38页 |
§3.3 结果与讨论 | 第38-44页 |
·扫描电镜图(SEM) | 第38-39页 |
·(?)的电化学行为 | 第39-40页 |
·修饰量的影响 | 第40页 |
·支持电解质和pH对峰电流的影响 | 第40-41页 |
·富集电位和富集时间的影响 | 第41页 |
·循环伏安行为和动力学参数测量 | 第41-43页 |
·(?)在MC/GC上的电化学反应机理 | 第43页 |
·线性范围、检测限及重现性 | 第43-44页 |
·共存离子的影响 | 第44页 |
·样品测定 | 第44页 |
§3.4 结论 | 第44-45页 |
参考文献 | 第45-46页 |
第四章 多壁碳纳米管—Nafion修饰电极测定总铁 | 第46-59页 |
§4.1 引言 | 第46-47页 |
§4.2 实验部分 | 第47-48页 |
·仪器和试剂 | 第47页 |
·MWNTs-chitosan修饰电极的制备 | 第47页 |
·分析步骤 | 第47-48页 |
§4.3 结果与讨论 | 第48-56页 |
·铁(Ⅱ)/(Ⅲ)在MN/GC上的溶出伏安行为 | 第48-49页 |
·循环伏安行为 | 第49-51页 |
·修饰条件的优化 | 第51-52页 |
·pH对峰电流的影响 | 第52页 |
·富集电位和富集时间的影响 | 第52-53页 |
·线性范围及重现性 | 第53-54页 |
·共存离子的影响 | 第54页 |
·电极反应机理 | 第54-56页 |
·样品测定 | 第56页 |
§4.4 结论 | 第56-57页 |
参考文献 | 第57-59页 |
附录 | 第59-60页 |
致谢 | 第60页 |