| 1 前言 | 第1-20页 |
| ·高纯硝酸银在感光材料中的应用 | 第8-9页 |
| ·高纯硝酸银中痕量金属杂质对感光性能的影响 | 第9页 |
| ·国内外不同等级硝酸银中痕量金属杂质指标比较 | 第9-10页 |
| ·目前国内测定硝酸银中痕量金属杂质的主要分析方法 | 第10-14页 |
| ·电感耦合等离子体发射光谱法(ICP-AES)简介 | 第14-17页 |
| ·电感耦合等离子体质谱法(ICP-MS)简介 | 第17-18页 |
| ·本课题研究的意义、研究的内容及思路 | 第18-20页 |
| 2 试验部分 | 第20-35页 |
| ·样品来源及处理 | 第20-21页 |
| ·样品来源 | 第20页 |
| ·样品处理 | 第20-21页 |
| ·仪器和试剂 | 第20-21页 |
| ·样品处理方法 | 第21页 |
| ·ICP-AES测定 | 第21-27页 |
| ·仪器工作条件 | 第21-22页 |
| ·试验方法 | 第22-27页 |
| ·ICP-MS测定 | 第27-35页 |
| ·仪器工作条件 | 第27-29页 |
| ·试验方法 | 第29-35页 |
| 3 结果与讨论 | 第35-54页 |
| ·样品预处理方法相关问题的讨论 | 第35-38页 |
| ·高纯硝酸银样品预处理方法现状 | 第35-36页 |
| ·新样品预处理方法研究思路 | 第36-37页 |
| ·新样品预处理方法优缺点分析 | 第37-38页 |
| ·ICP-AES部分 | 第38-46页 |
| ·RF功率优化 | 第38页 |
| ·载气流量的选择 | 第38-39页 |
| ·观测高度的选择 | 第39页 |
| ·光谱干扰 | 第39页 |
| ·萃取操作时酸度的选择 | 第39页 |
| ·分析线的选择 | 第39-40页 |
| ·标准曲线 | 第40-45页 |
| ·检出限 | 第45-46页 |
| ·ICP-MS部分 | 第46-53页 |
| ·RF功率优化 | 第46页 |
| ·气体流量的选择 | 第46页 |
| ·质谱干扰 | 第46页 |
| ·非质谱干扰(基体效应) | 第46页 |
| ·质荷比(m／e)的选择 | 第46-47页 |
| ·标准曲线 | 第47-52页 |
| ·检出限 | 第52-53页 |
| ·ICP-AES和ICP-MS在高纯贵金属分析中的应用 | 第53-54页 |
| 4 分析方法的确立 | 第54-60页 |
| 参考文献 | 第60-64页 |
| 声明 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65页 |