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Cu/ZrW2O8复合材料的制备及其性能研究

摘要第1-6页
ABSTRACT第6-11页
第一章 绪论第11-26页
   ·引言第11-12页
   ·电子封装与电子封装材料第12-14页
     ·电子封装的重要性第12页
     ·电子封装材料的要求第12-13页
     ·微电子封装的功能第13-14页
   ·金属基复合电子封装材料第14-20页
     ·金属基复合电子封装材料的优越性第14-15页
     ·金属基复合电子封装材料的种类第15-16页
     ·铜基复合电子封装材料第16-18页
     ·新型增强体ZrW_2O_8材料第18-20页
   ·铜基复合材料制备技术第20-22页
     ·粉末冶金的特点第21页
     ·粉末冶金法在铜基复合材料中的应用第21-22页
   ·铜基-陶瓷复合粉体制备技术第22-24页
     ·化学镀的特点第23页
     ·陶瓷粉末化学镀铜预处理第23-24页
   ·本课题主要目的和研究内容第24-26页
第二章 ZrW_2O_8粉体的制备第26-32页
   ·引言第26页
   ·固相法第26-27页
   ·实验第27-28页
     ·实验原料、仪器及设备第27页
     ·分步固相合成ZrW_2O_8的工艺第27-28页
   ·测试与表征第28-29页
     ·X射线衍射分析(XRD)第28页
     ·扫描电子显微镜分析(SEM)第28-29页
   ·实验结果与分析第29-30页
     ·产物的物相分析第29页
     ·产物的形貌分析第29-30页
   ·ZrW_2O_8热膨胀性能分析第30-31页
   ·本章小结第31-32页
第三章 Cu包覆ZrW_2O_8复合粉体的制备研究第32-51页
   ·引言第32页
   ·化学镀基本原理第32-33页
   ·实验第33-36页
     ·实验原料、仪器及设备第33页
     ·实验工艺第33-35页
     ·复合粉末的后处理第35-36页
     ·测试分析第36页
   ·实验结果及分析第36-40页
     ·XRD分析第36-37页
     ·SEM分析第37-38页
     ·EDS分析第38-39页
     ·TG-DSC分析第39-40页
   ·镀液组成对镀速增重的影响第40-48页
     ·pH值的影响第40-42页
     ·甲醛含量的影响第42-44页
     ·硫酸铜含量对化学镀铜的影响第44-46页
     ·络合剂含量对化学镀铜的影响第46-48页
   ·化学镀铜过程中氧化亚铜产生及消除第48-49页
     ·氧化亚铜产生的机理第48页
     ·氧化亚铜的消除第48-49页
   ·本章小结第49-51页
第四章 Cu/ZrW_2O_8复合块体材料的制备研究第51-61页
   ·引言第51页
   ·粉末形态对制备工艺的影响第51页
   ·压制工艺技术第51-54页
     ·压制过程中压坯密度的变化规律第52-53页
     ·压制压力第53-54页
     ·压制模式第54页
     ·加压速度第54页
     ·保压时间第54页
     ·脱模压力第54页
   ·烧结第54-55页
   ·实验结果与分析第55-58页
     ·复合材料物相分析第55-56页
     ·复合材料显微组织分析第56-57页
     ·复合材料微观结构分析第57-58页
   ·致密度分析第58-60页
     ·致密度测试第59页
     ·测试结果第59-60页
   ·本章小结第60-61页
第五章 Cu/ZrW_2O_8复合材料热物理性能研究第61-74页
   ·引言第61页
   ·热膨胀性能第61-66页
     ·热膨胀系数测定第61-62页
     ·复合材料热膨胀系数预测第62-64页
     ·实验结果第64-65页
     ·热膨胀分析第65-66页
   ·导热性能第66-72页
     ·导热系数测试第66-68页
     ·实验结果第68-69页
     ·导热系数的理论预测第69-70页
     ·导热分析第70-72页
   ·本章小结第72-74页
第六章 结论第74-75页
致谢第75-76页
参考文献第76-81页
发表论文第81页

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