| 摘要 | 第1-9页 |
| ABSTRACT | 第9-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-28页 |
| ·纳米磁性材料概述 | 第11-14页 |
| ·磁性薄膜 | 第14-15页 |
| ·磁性材料中的基本现象及能量表述 | 第15-17页 |
| ·磁畴、矫顽力及磁滞现象 | 第17-19页 |
| ·晶粒尺寸效应和有效各向异性 | 第19-21页 |
| ·复数磁导率及包含涡流效应的磁化动力学析分 | 第21-25页 |
| ·高频软磁性薄膜的研究现状 | 第25-27页 |
| ·FeCoAlN薄膜的研究目的和意义 | 第27-28页 |
| 第二章 实验方法 | 第28-39页 |
| ·样品的制备 | 第28-32页 |
| ·磁控溅射的基本原理 | 第28-31页 |
| ·基片准备过程 | 第31-32页 |
| ·样品的表征 | 第32-39页 |
| ·薄膜厚度测量 | 第32页 |
| ·X射线衍射 | 第32-33页 |
| ·振动样品磁强计 | 第33-34页 |
| ·电阻率的测量 | 第34页 |
| ·动态磁性测量 | 第34-38页 |
| ·薄膜成份的测量 | 第38-39页 |
| 第三章 FeCoAlN薄膜的结构与性能 | 第39-56页 |
| ·样品制备条件 | 第39-40页 |
| ·N含量对(Fe_(64.8)Co_(35.2))AlN薄膜结构和静态磁性的影响 | 第40-42页 |
| ·N含量对薄膜结构的影响 | 第40-41页 |
| ·N含量对薄膜静态磁性的影响 | 第41-42页 |
| ·Al含量对(Fe_(64.8)Co_(35.2))AlN薄膜结构和静态磁性的影响 | 第42-44页 |
| ·Al含量对薄膜结构的影响 | 第42页 |
| ·Al含量对薄膜静态磁性的影响 | 第42-44页 |
| ·N含量对(Fe_(64.8)Co_(35.2))AlN薄膜动态磁性的影响 | 第44-45页 |
| ·Al含量对(Fe_(64.8)Co_(35.2))AlN薄膜动态磁性的影响 | 第45-46页 |
| ·Al含量对(Fe_(64.8)Co_(35.2))AlN薄膜磁性热稳定性的影响 | 第46-51页 |
| ·不同膜厚对(Fe_(64.8)Co_(35.2))AlN薄膜结构和磁性的影响 | 第51-52页 |
| ·不同膜厚对薄膜结构的影响 | 第51页 |
| ·不同膜厚对薄膜磁性的影响 | 第51-52页 |
| ·退火条件对(Fe_(64.8)Co_(35.2))AlN薄膜磁性的影响 | 第52-56页 |
| ·不同温度热处理对薄膜磁性的影响 | 第52-53页 |
| ·不同时间热处理对薄膜磁性的影响 | 第53-54页 |
| ·不同膜厚热处理对薄膜磁性的影响 | 第54-56页 |
| 第四章 总结与展望 | 第56-58页 |
| ·本文工作总结 | 第56-57页 |
| ·展望 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-63页 |
| 硕士论文工作期间发表的学术论文 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64页 |
