热致变色钒氧化物膜的制备、结构与性能的研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-27页 |
| ·VO_2的晶体结构及相变特性 | 第9-13页 |
| ·VO_2的晶体结构 | 第9-11页 |
| ·VO_2的光学性能 | 第11-12页 |
| ·VO_2的电学性能 | 第12-13页 |
| ·V_2O_3的晶体结构及性质 | 第13-14页 |
| ·V_2O_5晶体结构和性质 | 第14-15页 |
| ·VO_2薄膜的应用 | 第15-18页 |
| ·智能窗 | 第15-16页 |
| ·激光防护 | 第16页 |
| ·光储存材料 | 第16-17页 |
| ·热敏开关 | 第17页 |
| ·红外探测器保护阀 | 第17页 |
| ·非致冷红外焦平面器件 | 第17-18页 |
| ·钒氧化物薄膜的制备方法 | 第18-22页 |
| ·溅射法 | 第18-20页 |
| ·化学气相沉积法(CVD法) | 第20页 |
| ·真空蒸发法 | 第20-21页 |
| ·溶胶凝胶法(sol-gel法) | 第21-22页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第22页 |
| ·离子束增强沉积法(IBED法) | 第22页 |
| ·国内外研究现状 | 第22-26页 |
| ·本文研究的意义及内容 | 第26-27页 |
| 第二章 实验方案和实验过程 | 第27-37页 |
| ·实验设备 | 第27-28页 |
| ·实验原理 | 第28-33页 |
| ·磁控溅射原理 | 第28-31页 |
| ·反应溅射 | 第31-32页 |
| ·双靶溅射 | 第32-33页 |
| ·实验步骤 | 第33-35页 |
| ·实验原料 | 第33页 |
| ·衬底表面预处理 | 第33页 |
| ·实验方案 | 第33-35页 |
| ·薄膜样品的检测 | 第35-37页 |
| ·X射线衍射分析 | 第35页 |
| ·原子力显微镜分析 | 第35-36页 |
| ·扫描电子显微镜分析 | 第36页 |
| ·拉曼光谱分析 | 第36-37页 |
| 第三章 磁控溅射制备钒氧化物薄膜 | 第37-59页 |
| ·不同溅射功率的影响 | 第37-46页 |
| ·物相分析 | 第37-42页 |
| ·表面形貌分析 | 第42-46页 |
| ·不同压强的影响 | 第46-49页 |
| ·不同溅射基体温度的影响 | 第49-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 第四章 双靶溅射掺钨钒氧化物薄膜的制备及研究 | 第59-69页 |
| ·掺钨对溅射薄膜的影响 | 第59-64页 |
| ·基体温度对掺钨钒氧化物薄膜的影响 | 第64-68页 |
| ·基体温度对掺钨钒氧化物薄膜物相的影响 | 第64-66页 |
| ·基体温度对掺钨钒氧化物薄膜表面形貌的影响 | 第66-68页 |
| ·本章小结 | 第68-69页 |
| 第五章 反应磁控溅射制备VO_2薄膜 | 第69-79页 |
| ·VO_2薄膜XRD分析 | 第69-73页 |
| ·VO_2薄膜的形貌分析 | 第73-77页 |
| ·VO_2薄膜的拉曼分析 | 第77-78页 |
| ·本章小结 | 第78-79页 |
| 第六章 结论 | 第79-80页 |
| 参考文献 | 第80-87页 |
| 致谢 | 第87-88页 |
| 攻读硕士期间发表的学术论文 | 第88页 |
