| 摘要 | 第1-9页 |
| Abstract | 第9-15页 |
| 引言 | 第15-17页 |
| 第一章 绪论 | 第17-40页 |
| ·磁性基本知识 | 第18-21页 |
| ·物质的磁性 | 第18-20页 |
| ·过渡金属、稀土金属及其部分常见化合物的磁性 | 第20-21页 |
| ·ZnO的材料特性 | 第21-24页 |
| ·稀磁半导体材料的发展历史 | 第24-25页 |
| ·ZnO基稀磁半导体的研究现状 | 第25-38页 |
| ·ZnO掺Mn体系的特性 | 第25-32页 |
| ·ZnO掺Co体系的特性 | 第32-35页 |
| ·ZnO掺杂其他过渡金属 | 第35-37页 |
| ·小结 | 第37-38页 |
| ·本文的选题目的及意义 | 第38-40页 |
| 第二章 实验表征方法 | 第40-67页 |
| ·正电子湮没技术 | 第40-48页 |
| ·正电子谱学基础 | 第40-48页 |
| ·正电子的发现 | 第40-41页 |
| ·正电子湮没 | 第41-44页 |
| ·主要正电子湮没参数 | 第44-46页 |
| ·电子偶素的形成与湮没 | 第46-48页 |
| ·正电子湮没测量技术 | 第48-63页 |
| ·正电子源 | 第48-50页 |
| ·正电子湮没寿命谱测量 | 第50-53页 |
| ·正电子寿命谱谱仪 | 第50-51页 |
| ·正电子寿命谱的分析 | 第51-53页 |
| ·正电子湮没辐射多普勒展宽谱测量 | 第53-60页 |
| ·慢正电子束分析技术 | 第60-63页 |
| ·其他实验表征方法 | 第63-67页 |
| ·X射线衍射 | 第63-64页 |
| ·电子显微分析 | 第64-65页 |
| ·拉曼光谱 | 第65页 |
| ·光致发光谱 | 第65-66页 |
| ·磁性测量 | 第66-67页 |
| 第三章 过渡金属离子注入的ZnO单晶 | 第67-87页 |
| ·Fe离子注入的ZnO单晶 | 第67-77页 |
| ·样品制备与表征 | 第67-69页 |
| ·结果与讨论 | 第69-77页 |
| ·XRD结果分析 | 第69-72页 |
| ·慢正电子束测量结果分析 | 第72-74页 |
| ·磁性测量结果分析 | 第74-75页 |
| ·光致发光谱结果分析 | 第75-76页 |
| ·拉曼光谱结果分析 | 第76-77页 |
| ·Co离子注入的ZnO单晶 | 第77-85页 |
| ·样品的制备与表征 | 第78-79页 |
| ·结果与讨论 | 第79-85页 |
| ·XRD结果分析 | 第79-80页 |
| ·慢正电子束测量结果 | 第80-82页 |
| ·磁性测量结果分析 | 第82-83页 |
| ·光致发光谱结果分析 | 第83-84页 |
| ·拉曼光谱结果分析 | 第84-85页 |
| ·本章小结 | 第85-87页 |
| 第四章 ZnO纳米晶的磁性及表面界面缺陷研究 | 第87-104页 |
| ·样品的制备与表征 | 第88-89页 |
| ·结果与讨论 | 第89-103页 |
| ·XRD表征 | 第89-91页 |
| ·电子显微图像 | 第91-93页 |
| ·正电子湮没谱测量 | 第93-100页 |
| ·正电子湮没寿命谱 | 第93-98页 |
| ·正电子湮没符合多普勒展宽谱 | 第98-100页 |
| ·拉曼散射谱测量结果 | 第100-101页 |
| ·磁性测量结果 | 第101-103页 |
| ·本章小结 | 第103-104页 |
| 第五章 Fe掺杂的ZnO纳米复合物的结构缺陷及磁性研究 | 第104-113页 |
| ·样品的制备与表征 | 第104-105页 |
| ·结果与讨论 | 第105-112页 |
| ·XRD表征 | 第105-106页 |
| ·扫描电镜图像 | 第106-107页 |
| ·正电子湮没谱结果 | 第107-110页 |
| ·磁性测量结果 | 第110-112页 |
| ·本章小结 | 第112-113页 |
| 第六章 全文总结及今后展望 | 第113-115页 |
| ·主要结论 | 第113-114页 |
| ·研究中存在的问题及今后展望 | 第114-115页 |
| 参考文献 | 第115-123页 |
| 攻博期间发表科研成果目录 | 第123-124页 |
| 致谢 | 第124-125页 |