| 摘要 | 第3-4页 |
| abstract | 第4-5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-20页 |
| 1.1 引言 | 第8-9页 |
| 1.2 乙炔选择性加氢工艺 | 第9页 |
| 1.3 乙炔选择加氢反应机理 | 第9-13页 |
| 1.4 乙炔选择性加氢催化剂 | 第13-17页 |
| 1.4.1 催化剂活性组分 | 第13-16页 |
| 1.4.2 载体 | 第16-17页 |
| 1.5 论文研究思路及内容 | 第17-20页 |
| 1.5.1 论文研究思路 | 第17页 |
| 1.5.2 论文研究内容 | 第17-20页 |
| 第2章 实验方法 | 第20-28页 |
| 2.1 试剂与原料 | 第20页 |
| 2.2 催化剂的制备 | 第20-22页 |
| 2.2.1 SiO_2 负载Ni-Ga双金属催化剂的制备 | 第20-21页 |
| 2.2.2 CeO_2 负载Ni-Ga双金属催化剂的制备 | 第21-22页 |
| 2.3 催化剂的表征 | 第22-25页 |
| 2.3.1 H_2-TPR | 第22-23页 |
| 2.3.2 X-射线衍射(XRD) | 第23页 |
| 2.3.3 透射电子显微镜(TEM) | 第23页 |
| 2.3.4 X-射线光电子能谱(XPS) | 第23-24页 |
| 2.3.5 H_2 化学吸附 | 第24页 |
| 2.3.6 C_2H_4-TPD | 第24页 |
| 2.3.7 NH_3-程序升温脱附(NH_3-TPD) | 第24-25页 |
| 2.3.8 热重(TG-DTA) | 第25页 |
| 2.3.9 N_2 物理吸附-脱附 | 第25页 |
| 2.4 催化剂活性评价 | 第25-28页 |
| 第3章 Ga对 Ni/SiO_2催化剂乙炔选择性加氢性能的影响 | 第28-54页 |
| 3.1 引言 | 第28-29页 |
| 3.2 催化剂表征结果及讨论 | 第29-42页 |
| 3.2.1 H_2-TPR | 第29-30页 |
| 3.2.2 XRD | 第30-34页 |
| 3.2.3 TEM | 第34-35页 |
| 3.2.4 X-射线光电子能谱(XPS) | 第35-37页 |
| 3.2.5 H_2 化学吸附 | 第37-38页 |
| 3.2.6 C_2H_4-TPD | 第38-39页 |
| 3.2.7 NH_3-TPD | 第39-42页 |
| 3.3 催化剂活性评价结果与讨论 | 第42-47页 |
| 3.4 催化剂失活 | 第47-51页 |
| 3.4.1 积碳 | 第48-49页 |
| 3.4.2 NiC_x物相 | 第49-51页 |
| 3.5 本章小结 | 第51-54页 |
| 第4章 Ni_xGa/CeO_2 催化剂乙炔选择性加氢性能 | 第54-76页 |
| 4.1 引言 | 第54页 |
| 4.2 催化剂表征结果 | 第54-61页 |
| 4.2.1 催化剂前驱体的XRD及 H_2-TPR | 第54-56页 |
| 4.2.2 XRD | 第56-59页 |
| 4.2.3 H_2-化学吸附 | 第59页 |
| 4.2.4 C_2H_4-TPD | 第59-60页 |
| 4.2.5 N_2 吸附脱附 | 第60-61页 |
| 4.3 催化剂性能评价结果与讨论 | 第61-72页 |
| 4.3.1 Ni/Ga原子比对Ni_xGa/CeO_2 催化剂性能的影响 | 第61-65页 |
| 4.3.2 还原温度对Ni_5Ga/CeO_2 催化剂性能的影响 | 第65-69页 |
| 4.3.3 Ni_5Ga/SiO_2与Ni_5Ga/CeO_2 催化剂评价结果对比 | 第69-72页 |
| 4.4 反应后催化剂XRD表征 | 第72-73页 |
| 4.5 本章小结 | 第73-76页 |
| 第5章 结论与展望 | 第76-78页 |
| 5.1 结论 | 第76-77页 |
| 5.2 展望 | 第77-78页 |
| 参考文献 | 第78-86页 |
| 发表的论文和参加科研情况说明 | 第86-88页 |
| 致谢 | 第88页 |
