| 摘要 | 第8-10页 |
| Abstract | 第10-11页 |
| 第1章 绪论 | 第12-30页 |
| 1.1 引言 | 第12-13页 |
| 1.2 光催化分解水析氢的原理 | 第13-14页 |
| 1.3 钽基氮(氧)化物光催化剂的研究现状 | 第14-17页 |
| 1.3.1 钽基氧化物研究现状 | 第14页 |
| 1.3.2 钽基氮(氧)化物研究现状 | 第14-16页 |
| 1.3.3 钽基氮(氧)化物优缺点 | 第16-17页 |
| 1.4 钽基氮(氧)化物的制备工艺研究现状 | 第17-19页 |
| 1.4.1 高温氨解法 | 第17-18页 |
| 1.4.2 电泳沉积法 | 第18页 |
| 1.4.3 溅射法 | 第18页 |
| 1.4.4 原位化学还原法 | 第18-19页 |
| 1.5 钽基氮(氧)化物的改性研究现状 | 第19-28页 |
| 1.5.1 控制形貌和尺寸 | 第19-21页 |
| 1.5.2 离子掺杂改性 | 第21-23页 |
| 1.5.3 半导体材料的复合 | 第23-25页 |
| 1.5.4 表面修饰 | 第25-28页 |
| 1.6 钽基氮(氧)化物的光催化应用研究现状 | 第28页 |
| 1.6.1 光催化分解水 | 第28页 |
| 1.6.2 光催化降解污染物 | 第28页 |
| 1.7 本文的立题依据与研究内容 | 第28-30页 |
| 1.7.1 立题依据 | 第28-29页 |
| 1.7.2 研究内容 | 第29-30页 |
| 第2章 实验材料及研究方法 | 第30-42页 |
| 2.1 实验试剂 | 第30页 |
| 2.2 实验仪器和设备 | 第30-31页 |
| 2.3 实验方法 | 第31-40页 |
| 2.3.1 Ta_3N_5@Ta2O5 纳米光催化剂的制备 | 第31-33页 |
| 2.3.2 Co~(2+)掺杂Ta_3N_5基纳米光催化剂的制备 | 第33-34页 |
| 2.3.3 Co~(2+)表面修饰Ta_3N_5基纳米光催化剂的制备 | 第34-37页 |
| 2.3.4 Co~(2+)(Co O)与 Ta_3N_5@Ta2O5 物理混合的纳米光催化剂的制备 | 第37-38页 |
| 2.3.5 Co~(3+)表面修饰Ta_3N_5基纳米光催化剂的制备 | 第38-39页 |
| 2.3.6 Co~(2+)/Co~(3+)协同修饰 Ta_3N_5 基纳米光催化剂的制备 | 第39-40页 |
| 2.4 光催化剂的表征 | 第40-42页 |
| 2.4.1 XRD分析 | 第40页 |
| 2.4.2 SEM分析 | 第40页 |
| 2.4.3 TEM分析 | 第40页 |
| 2.4.4 XPS分析 | 第40页 |
| 2.4.5 BET分析 | 第40页 |
| 2.4.6 FT-IR分析 | 第40页 |
| 2.4.7 UV-vis吸收光谱分析 | 第40页 |
| 2.4.8 光电化学性能测试 | 第40-41页 |
| 2.4.9 光催化分解水产氢测试 | 第41-42页 |
| 第3章 Co改性Ta_3N_5基光催化剂的制备工艺对比研究 | 第42-55页 |
| 3.1 引言 | 第42页 |
| 3.2 Co~(2+)改性Ta_3N_5基光催化剂的制备工艺对比研究 | 第42-51页 |
| 3.2.1 Co~(2+)原位掺杂Ta_3N_5基光催化剂的制备工艺研究 | 第42-44页 |
| 3.2.2 Co~(2+)表面修饰Ta_3N_5基纳米光催化剂的制备工艺研究 | 第44-50页 |
| 3.2.3 Co~(2+)改性Ta_3N_5基光催化剂的合成路线对比研究 | 第50-51页 |
| 3.3 Co~(3+)改性Ta_3N_5基光催化剂的制备工艺对比研究 | 第51-53页 |
| 3.3.1 Co~(3+)原位掺杂Ta_3N_5基光催化剂的制备工艺研究 | 第51-52页 |
| 3.3.2 Co~(3+)表面修饰Ta_3N_5基光催化剂的制备工艺研究 | 第52-53页 |
| 3.4 Co~(2+)/Co~(3+)协同改性 Ta_3N_5 基光催化剂的制备工艺研究 | 第53-54页 |
| 3.5 小结 | 第54-55页 |
| 第4章 Co~(2+)/Co~(3+)协同修饰Ta_3N_5基光催化剂的表征及可见光解水析氢性能研究 | 第55-81页 |
| 4.1 引言 | 第55-56页 |
| 4.2 结果与讨论 | 第56-79页 |
| 4.2.1 XRD分析 | 第56-58页 |
| 4.2.2 SEM分析 | 第58-61页 |
| 4.2.3 TEM分析 | 第61-66页 |
| 4.2.4 XPS分析 | 第66-68页 |
| 4.2.5 BET分析 | 第68-69页 |
| 4.2.6 FT-IR分析 | 第69-70页 |
| 4.2.7 UV-vis吸收光谱分析 | 第70-72页 |
| 4.2.8 光电化学性能测试 | 第72-77页 |
| 4.2.9 Co~(2+)/Co~(3+)协同修饰的Ta_3N_5 基光催化剂可见光解水析氢性能 | 第77-79页 |
| 4.3 小结 | 第79-81页 |
| 第5章 Co~(3+)修饰Ta_3N_5基光催化剂的表征及可见光解水析氢性能研究 | 第81-94页 |
| 5.1 引言 | 第81页 |
| 5.2 结果与讨论 | 第81-93页 |
| 5.2.1 XRD分析 | 第81-82页 |
| 5.2.2 SEM分析 | 第82页 |
| 5.2.3 TEM分析 | 第82-86页 |
| 5.2.4 XPS分析 | 第86-87页 |
| 5.2.5 BET分析 | 第87-88页 |
| 5.2.6 FT-IR分析 | 第88页 |
| 5.2.7 UV-vis吸收光谱分析 | 第88-89页 |
| 5.2.8 光电化学性能测试 | 第89-92页 |
| 5.2.9 Co~(3+)修饰的Ta_3N_5基光催化剂可见光解水析氢性能 | 第92-93页 |
| 5.3 小结 | 第93-94页 |
| 结论 | 第94-95页 |
| 参考文献 | 第95-103页 |
| 附录 | 第103-110页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第110-111页 |
| 致谢 | 第111页 |
