| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-21页 |
| 1.1 引言 | 第9页 |
| 1.2 双光子荧光技术 | 第9-14页 |
| 1.2.1 双光子荧光技术的理论基础 | 第9-11页 |
| 1.2.2 双光子荧光技术的应用 | 第11-14页 |
| 1.3 表面增强荧光技术 | 第14-18页 |
| 1.3.1 局域电磁场增强理论 | 第14-16页 |
| 1.3.2 荧光共振能量转移与耦合发射理论 | 第16-17页 |
| 1.3.3 荧光分子的辐射衰减工程 | 第17-18页 |
| 1.4 表面等离激元的研究概述 | 第18页 |
| 1.5 本文的研究意义与主要工作 | 第18-21页 |
| 第二章 表面等离激元的理论基础 | 第21-31页 |
| 2.1 表面等离激元的基本知识 | 第21页 |
| 2.2 金属介电常数的色散模型 | 第21-23页 |
| 2.2.1 Drude模型 | 第21-22页 |
| 2.2.2 Drude-Lorentz模型 | 第22-23页 |
| 2.3 表面等离激元的基本性质 | 第23-28页 |
| 2.3.1 表面等离激元的色散特性 | 第23-25页 |
| 2.3.2 表面等离激元的传播速度 | 第25-26页 |
| 2.3.3 表面等离激元的特征长度 | 第26-27页 |
| 2.3.4 表面等离激元的表面局域和近场增强特 | 第27-28页 |
| 2.4 表面等离激元的激发方法 | 第28-30页 |
| 2.4.1 衰减全反射法（ATR） | 第28页 |
| 2.4.2 光栅衍射耦合法 | 第28-29页 |
| 2.4.3 波导结构法 | 第29页 |
| 2.4.4 强聚焦光束法 | 第29-30页 |
| 2.4.5 近场激发法 | 第30页 |
| 2.5 本章小结 | 第30-31页 |
| 第三章 数值建模与仿真 | 第31-41页 |
| 3.1 数值模拟方法简介 | 第31页 |
| 3.1.1 时域有限差分法(Finite Difference Time Domain method，FDTD) | 第31页 |
| 3.1.2 传输矩阵法（Transfer Matrix Method，TMM） | 第31页 |
| 3.1.3 有限元法（Finite Element Method，FEM） | 第31页 |
| 3.2 多物理场有限元仿真软件应用于表面等离激元研究的简介 | 第31-32页 |
| 3.3 周期性银纳米圆盘-二氧化硅-银膜共振结构仿真模型的建立与分析 | 第32-39页 |
| 3.3.1 背景散射场法仿真模型 | 第32-33页 |
| 3.3.2 两步法仿真模型 | 第33-34页 |
| 3.3.3 反射谱计算模型 | 第34-35页 |
| 3.3.4 散射特性计算模型 | 第35页 |
| 3.3.5 周期性银纳米圆盘-二氧化硅-银膜共振结构仿真结果及分析 | 第35-39页 |
| 3.4 本章小结 | 第39-41页 |
| 第四章 白光反射谱测量及双光子荧光增强实验 | 第41-53页 |
| 4.1 周期性银纳米圆盘-二氧化硅-银膜共振结构的制备及表征 | 第41-44页 |
| 4.1.1 周期性银纳米圆盘-二氧化硅-银膜共振结构制备的工艺流程 | 第41-43页 |
| 4.1.2 周期性银纳米圆盘-二氧化硅-银膜共振结构的表征 | 第43-44页 |
| 4.2 周期性银纳米圆盘-二氧化硅-银膜共振结构反射谱测量与结果讨论 | 第44-46页 |
| 4.3 基于周期性银纳米圆盘-二氧化硅-银膜共振结构的双光子荧光增强实验 | 第46-51页 |
| 4.3.1 双光子荧光物质的选择以及薄膜制备 | 第46-48页 |
| 4.3.2 双光子激发荧光增强实验系统 | 第48-49页 |
| 4.3.3 实验以及实验数据处理注意事项 | 第49页 |
| 4.3.4 表面等离激元匹配增强双光子激发荧光实验结果及讨论 | 第49-51页 |
| 4.4 本章小结 | 第51-53页 |
| 第五章 总结与展望 | 第53-55页 |
| 致谢 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-61页 |
| 作者简介 | 第61页 |
