摘要 | 第5-6页 |
abstract | 第6页 |
物理量名称及符号表 | 第7-10页 |
第1章 绪论 | 第10-20页 |
1.1 膜蒸馏概述 | 第10-12页 |
1.1.1 膜蒸馏原理及分类 | 第10-12页 |
1.1.2 膜蒸馏用膜的要求 | 第12页 |
1.2 膜污染与亲水化 | 第12-16页 |
1.2.1 膜污染与亲水化现象 | 第12-14页 |
1.2.2 耐污染和抗亲水化改性 | 第14-16页 |
1.3 GO在膜改性中的应用 | 第16-17页 |
1.4 硅烷偶联剂在膜改性中的应用 | 第17-19页 |
1.5 本论文的主要研究内容 | 第19-20页 |
第2章 实验部分 | 第20-28页 |
2.1 实验部分 | 第20-21页 |
2.1.1 实验材料与试剂 | 第20页 |
2.1.2 实验仪器与设备 | 第20-21页 |
2.2 复合膜的制备 | 第21-23页 |
2.2.1 GO-PVDF复合膜 | 第21-22页 |
2.2.2 rGO-PVDF复合膜 | 第22页 |
2.2.3 SiO_2-PVDF复合膜 | 第22页 |
2.2.4 PFTS-GO-PVDF复合膜 | 第22-23页 |
2.2.5 PFTS-PVDF复合膜 | 第23页 |
2.3 GO负载量的测定 | 第23-24页 |
2.4 膜的表征 | 第24-26页 |
2.4.1 最大孔径、平均孔径和孔径分布 | 第24页 |
2.4.2 氮气通量 | 第24页 |
2.4.3 表面接触角 | 第24页 |
2.4.4 水透过压力 | 第24-25页 |
2.4.5 Zeta电位 | 第25页 |
2.4.6 形貌表征 | 第25页 |
2.4.7 元素分析 | 第25-26页 |
2.5 膜的性能评价 | 第26-28页 |
第3章 GO对PVDF多孔膜的孔道修饰 | 第28-44页 |
3.1 基膜预处理 | 第28-29页 |
3.2 复合膜的表征 | 第29-37页 |
3.2.1 接触角 | 第29-30页 |
3.2.2 形貌表征 | 第30-32页 |
3.2.3 元素分析 | 第32-33页 |
3.2.4 最大孔径、平均孔径和孔径分布以及气体通量 | 第33-36页 |
3.2.5 水透过压力 | 第36页 |
3.2.6 Zeta电位 | 第36-37页 |
3.3 膜的性能评价 | 第37-43页 |
3.3.1 含阴离子表面活性剂的DCMD性能实验 | 第37-40页 |
3.3.2 含阳离子表面活性剂的DCMD性能实验 | 第40-41页 |
3.3.3 含非离子表面活性剂的DCMD性能实验 | 第41-43页 |
3.4 本章小结 | 第43-44页 |
第4章 PFTS-GO-PVDF复合膜的制备 | 第44-56页 |
4.1 PFTS-GO-PVDF复合膜的表征 | 第44-48页 |
4.1.1 接触角 | 第44-45页 |
4.1.2 膜的微观结构 | 第45页 |
4.1.3 元素分析 | 第45-46页 |
4.1.4 水透过压力 | 第46-47页 |
4.1.5 最大孔径、平均孔径和孔径分布及氮气通量 | 第47-48页 |
4.2 膜的性能评价 | 第48-54页 |
4.2.1 含阴离子表面活性剂的DCMD性能实验 | 第48-51页 |
4.2.2 含阳离子表面活性剂的DCMD性能实验 | 第51-53页 |
4.2.3 含非离子表面活性剂的DCMD性能实验 | 第53-54页 |
4.3 本章小结 | 第54-56页 |
结论和展望 | 第56-58页 |
参考文献 | 第58-64页 |
攻读硕士学位期间所发表的学术论文 | 第64-66页 |
致谢 | 第66页 |