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膜蒸馏过程中孔道修饰增强膜抗润湿性的研究

摘要第5-6页
abstract第6页
物理量名称及符号表第7-10页
第1章 绪论第10-20页
    1.1 膜蒸馏概述第10-12页
        1.1.1 膜蒸馏原理及分类第10-12页
        1.1.2 膜蒸馏用膜的要求第12页
    1.2 膜污染与亲水化第12-16页
        1.2.1 膜污染与亲水化现象第12-14页
        1.2.2 耐污染和抗亲水化改性第14-16页
    1.3 GO在膜改性中的应用第16-17页
    1.4 硅烷偶联剂在膜改性中的应用第17-19页
    1.5 本论文的主要研究内容第19-20页
第2章 实验部分第20-28页
    2.1 实验部分第20-21页
        2.1.1 实验材料与试剂第20页
        2.1.2 实验仪器与设备第20-21页
    2.2 复合膜的制备第21-23页
        2.2.1 GO-PVDF复合膜第21-22页
        2.2.2 rGO-PVDF复合膜第22页
        2.2.3 SiO_2-PVDF复合膜第22页
        2.2.4 PFTS-GO-PVDF复合膜第22-23页
        2.2.5 PFTS-PVDF复合膜第23页
    2.3 GO负载量的测定第23-24页
    2.4 膜的表征第24-26页
        2.4.1 最大孔径、平均孔径和孔径分布第24页
        2.4.2 氮气通量第24页
        2.4.3 表面接触角第24页
        2.4.4 水透过压力第24-25页
        2.4.5 Zeta电位第25页
        2.4.6 形貌表征第25页
        2.4.7 元素分析第25-26页
    2.5 膜的性能评价第26-28页
第3章 GO对PVDF多孔膜的孔道修饰第28-44页
    3.1 基膜预处理第28-29页
    3.2 复合膜的表征第29-37页
        3.2.1 接触角第29-30页
        3.2.2 形貌表征第30-32页
        3.2.3 元素分析第32-33页
        3.2.4 最大孔径、平均孔径和孔径分布以及气体通量第33-36页
        3.2.5 水透过压力第36页
        3.2.6 Zeta电位第36-37页
    3.3 膜的性能评价第37-43页
        3.3.1 含阴离子表面活性剂的DCMD性能实验第37-40页
        3.3.2 含阳离子表面活性剂的DCMD性能实验第40-41页
        3.3.3 含非离子表面活性剂的DCMD性能实验第41-43页
    3.4 本章小结第43-44页
第4章 PFTS-GO-PVDF复合膜的制备第44-56页
    4.1 PFTS-GO-PVDF复合膜的表征第44-48页
        4.1.1 接触角第44-45页
        4.1.2 膜的微观结构第45页
        4.1.3 元素分析第45-46页
        4.1.4 水透过压力第46-47页
        4.1.5 最大孔径、平均孔径和孔径分布及氮气通量第47-48页
    4.2 膜的性能评价第48-54页
        4.2.1 含阴离子表面活性剂的DCMD性能实验第48-51页
        4.2.2 含阳离子表面活性剂的DCMD性能实验第51-53页
        4.2.3 含非离子表面活性剂的DCMD性能实验第53-54页
    4.3 本章小结第54-56页
结论和展望第56-58页
参考文献第58-64页
攻读硕士学位期间所发表的学术论文第64-66页
致谢第66页

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